實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要弱于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。
LP2000/4 (膠體磨塊) | |
功率 | 2.2KW |
轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
線速度 | 0-40m/s |
尺寸(長(zhǎng)X寬X高) | (450X250X3500)mm |
重量 | 30KG |
操作條件 | 0-2.5bar |
公司另外一項(xiàng)*的創(chuàng)新,就是錐體磨CMO2000系列,它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新,CMO2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無(wú)級(jí)調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
PP 2000/4 (膠體磨塊) | |
功率 | 2.2KW |
轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
線速度 | 0-40m/s |
尺寸(長(zhǎng)X寬X高) | (450X250X900)mm |
重量 | 45KG |
操作條件 | -1 -8bar |
LP2000/4 (膠體磨塊) | |
功率 | 2.2KW |
轉(zhuǎn)速 | 0-14000rpm |
線速度 | 0-40m/s |
尺寸(長(zhǎng)X寬X高) | (450X250X3500)mm |
重量 | 30KG |
操作條件 | 0-2.5bar |