實驗室膠體磨/高剪切膠體磨

實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

      膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。

LP2000/4 （膠體磨塊）
功率	2.2KW
轉(zhuǎn)速	0-14000rpm
線速度	0-40m/s
尺寸（長X寬X高）	（450X250X3500）mm
重量	30KG
操作條件	0-2.5bar

CM2000/4實驗室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     公司另外一項*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

PP 2000/4 （膠體磨塊）
功率	2.2KW
轉(zhuǎn)速	0-14000rpm
線速度	0-40m/s
尺寸（長X寬X高）	（450X250X900）mm
重量	45KG
操作條件	-1 -8bar

 

LP2000/4 （膠體磨塊）
功率	2.2KW
轉(zhuǎn)速	0-14000rpm
線速度	0-40m/s
尺寸（長X寬X高）	（450X250X3500）mm
重量	30KG
操作條件	0-2.5bar