科研口罩滅菌設備
該設備適用于對科研口罩進行滅菌,溫度可設定30至120攝氏度,也可在負壓下采用氣化滅菌,在微波場采用高頻振蕩使細菌在5-20分鐘內(nèi)快速殺死。
科研口罩滅菌設備
該設備適用于對科研口罩進行滅菌,溫度可設定30至120攝氏度,也可在負壓下采用氣化滅菌,在微波場采用高頻振蕩使細菌在5-20分鐘內(nèi)快速殺死。
科研口罩滅菌設備
該設備適用于對科研口罩進行滅菌,溫度可設定30至120攝氏度,也可在負壓下采用氣化滅菌,在微波場采用高頻振蕩使細菌在5-20分鐘內(nèi)快速殺死。