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激光鍍膜設(shè)備

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CY-LDE
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2020/12/31 14:20:42
  • 訪問次數(shù)655
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡單介紹: 激光鍍膜設(shè)備系統(tǒng)由真空腔室(主濺射室、進(jìn)樣室)、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機(jī)控制等各部分組成。激光鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。
激光鍍膜設(shè)備 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

激光鍍膜設(shè)備用途:

激光鍍膜設(shè)備用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料,適用于生長高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜材料。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。

激光鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù):

主真空室

球型結(jié)構(gòu),尺寸? 450mm

進(jìn)樣室

圓筒型立式結(jié)構(gòu),尺寸? 150x 150mm

真空系統(tǒng)配置

主真空室

分子泵與機(jī)械泵,閥門

進(jìn)樣室

分子泵與機(jī)械泵(與主真空室共用),閥門

極限壓力

主真空室

≦6*10-6Pa(經(jīng)烘烤除氣后)

進(jìn)樣室

≦6*10-3Pa(經(jīng)烘烤除氣后)

恢復(fù)真空時間

主真空室

20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_始抽氣)

進(jìn)樣室

20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa(系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_始抽氣)

旋轉(zhuǎn)靶臺

靶材*大尺寸約60mm;可一次安裝4塊靶材,可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶;每塊靶材可自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分

 

基片加熱臺

樣品尺寸

?51

運(yùn)動方式

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分

加熱溫度

基片加熱高溫度800C±1  C,可控可調(diào)

氣路系統(tǒng)

質(zhì)量流量控制器1路,充氣閥1路

可選部件

激光器裝置

配相干201激光器

激光束掃描裝置

二維掃描機(jī)械平臺,執(zhí)行兩自由度掃描

計算機(jī)控制系統(tǒng)

控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶,靶自轉(zhuǎn),樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃描等

設(shè)備占地面積

主機(jī)

1800 * 1800mm2

電控柜

700 *700mm2(1個)

 

免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考??赡苡捎诟虏患皶r,會造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。

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