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膜厚控制儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CY-FDC-S
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2020/12/31 20:50:09
  • 訪問次數(shù)1399
產(chǎn)品標簽:

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鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內,是一家專業(yè)從事材料制備設備和材料制備原料代理的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術及設備和原料的提供商。 鄭州成越科學儀器有限公司的“研發(fā)團隊”憑借自身在熱處理技術方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款材料制備設備。主要產(chǎn)品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學儀器有限公司 近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。
壓片機
簡單介紹: CY-FDC-S膜厚控制儀適用于電子束鍍膜、磁控濺射、電阻熱蒸發(fā)等各種鍍膜厚度控制場合。與蒸發(fā)源形成閉環(huán)控制,實時控制和顯示完整的鍍膜數(shù)據(jù),包括功率、速率、厚度和所用時間,可鍍制復雜的光學和金屬多層薄膜,通過觸摸屏控制實現(xiàn)各種操作,較傳統(tǒng)的按鍵操作更為直觀易懂。儀器編程極為方便,總共可設置8個膜系,每個膜系100......
膜厚控制儀 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

膜厚控制儀

技術特點:

1. 全觸屏操作,簡單易用;

2.32個膜系,每膜系50/100層自動鍍膜;

3. 12路信號輸入/12路開關量輸出;

4. 提供全自動、半自動、手動控制模式;

5.可控制2個源,一套工作另一套預溶;


技術參數(shù)

 

CY-FDC-S控制儀

晶振頻率

6MHz(可選2.5M 3M 5M 9M晶體)

顯示方式

5”彩色觸屏+數(shù)碼管顯示速率和實厚

操作方式

 觸摸屏

終    厚

00μ0000?-99μ9999?

厚度顯示分辨率

1?/s

速率顯示分辨率

0.1?/s

鍍膜層數(shù)

32膜系,每膜系50/100層;

探頭數(shù)量

A  B

工具因子

0.01-99.99

時間顯示   

00:00:00-23:59:59 H:M:S

功率顯示

0~99.9%

預熔功率

 0~99%

預鍍功率

0~99.9%

預熔時間/預鍍時間

0~99:99  m:s

預熔保溫時間

/預鍍保溫時間

  0~99:99  m:s

鍍膜速率(設定速率)

  0~999.9?/s

材料存儲

257+自定義10種

通  訊

RS232/RS485

可控蒸發(fā)源

2個,可一套工作另一套預溶

輸出控制

±10V/5V/2.5V

I/接口

12路信號輸入/12路開關量輸出

可控坩堝數(shù)量

1-16個

鍍膜顯示

速率曲線/數(shù)值

鍍膜巡回次數(shù)

每膜系50/100層自動

機箱尺寸

                      480×280×89mm(2U 19”機箱)


特殊功能:

1、手動、半自動、自動3種鍍膜模式,滿足多種鍍膜機配置;

2、人工停止鍍膜:鍍膜過程中人工終止鍍膜;

3、手動控制:確定初次鍍膜工藝要求;

4、中斷膜系:自動和半自動鍍膜中發(fā)現(xiàn)問題或出現(xiàn)故障,能停止鍍膜并能自動保存當前狀態(tài),待故障**后,可從中斷膜系繼續(xù)鍍膜;

5、自動或半自動鍍膜時,如晶振失效,可選擇按終止鍍膜、按當前功率時間鍍膜、切換晶片繼續(xù)(多晶片探頭);

6、兩個源同時預熔:當前層鍍膜開始過程中,可選擇同時對第2層進行預熔,以滿足對時間要求緊張的場合;

7、密碼保護:膜系和膜層參數(shù)密碼保護功能,保護工藝參數(shù)不被非工藝人員修改;

8、鍍膜數(shù)據(jù)記錄:自動或半自動鍍膜時,系統(tǒng)可記錄每層膜的成膜時間、*終厚度速率參數(shù)。



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