芬蘭 PICOSUN™ R-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALD
技術(shù)參數(shù)
。襯底尺寸和類型 50-200 mm /單片
。156 mm x 156 mm太陽能硅片
。3D 復(fù)雜表面襯底
。粉末與顆粒
。多孔,通孔,高深寬比(HAR)樣品
。工藝溫度 :50 - 500 °C , 可選更高溫度
?;瑐魉瓦x件 :氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載) ,預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手(Load lock )
。前驅(qū)體 液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源 ,4根獨(dú)立源管線,最多加載6個(gè)前驅(qū)體源
。重量 :350 kg
。尺寸: (W x H x D) 取決于選件
-最小146 cm x 146 cm x 84 cm
-189 cm x 206 cm x 111 cm
。選件 :PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng)器,集成橢偏儀,QCM, RGA,N2 發(fā)生器,尾氣處理器,定制設(shè) 計(jì),手套箱集成(用于惰性氣體下裝載)
。驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) :標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3工藝
PICOSUN™ R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù),并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性,包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。
我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級的,易更換的前驅(qū)源系統(tǒng),能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。 在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立的,*分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。