DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺

DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺：

DENTON 真空使創(chuàng)新成為可能，并已超過50年。

成千上萬的薄膜沉積工具安裝,包括一個大型的、在范圍內(nèi)安裝的精密光學(xué)沉積系統(tǒng)——工程師和研究人員依靠DENTON 的薄膜創(chuàng)新驅(qū)動更高的吞吐量,更好的收益和低擁有成本(運營官),受益于綜合服務(wù)和支持,和一個專門的研發(fā)項目,提供可行的技術(shù)。

探索者提供了薄膜工業(yè)中泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。

DENTON 薄膜沉積平臺

•R & D

•批量生產(chǎn)

•在線生產(chǎn)

•蒸發(fā)

•濺射

•PE-CVD

DENTON 的區(qū)別

你們的過程就是我們的過程。

我們與您合作設(shè)計一個系統(tǒng)，以解決您的確切薄膜涂裝工藝的需要。當(dāng)我們給你運送工具時，它已經(jīng)準(zhǔn)備好生產(chǎn)了。

•我們的系統(tǒng)規(guī)?？梢詽M足您的生產(chǎn)需求

•我們永遠相信客戶

•支持網(wǎng)絡(luò)

在DENTON，我們關(guān)心你的成功

•工廠驗收測試

•個性化培訓(xùn)

•遠程、實時支持

•CE / UL / CSA兼容系統(tǒng)

能濺射

電、磁、復(fù)合材料。柔性陰極，調(diào)整到?jīng)_擊角也可用。

強大的控制系統(tǒng)

可在半手動模式或全自動模式與一個推動自動化，以減少系統(tǒng)停機時間。

Processpro升級提供:

1.所有登頓真空產(chǎn)品的一致性控制。

2.標(biāo)準(zhǔn)軟件使其易于支持和避免昂貴的定制費用。

3.源代碼為您的程序，以便您可以自定義您的程序。

4.網(wǎng)絡(luò)功能使資源管理器

網(wǎng)絡(luò)上支持實時、遠程支持和升級的節(jié)點。

靈活的室大小

可容納多達10英寸的襯底。

多個泵配置

多種擴散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預(yù)算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務(wù)，根據(jù)您的工作場所的需要。

典型的應(yīng)用

PE-CVD

•材料研究

•小批處理系統(tǒng)

•3 d對象

•覆蓋各種材料

濺射

•材料研究

•產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證

•半導(dǎo)體失效分析

•CD掌握

•納米技術(shù)

•化合物半導(dǎo)體

•oled

蒸發(fā)

•材料研究

•離子輔助沉積(IAD)

•醫(yī)療設(shè)備

•電信

•CD掌握

•發(fā)射

•保護涂層

選項：