PICOSUN P-300S Pro ALD 原子層沉積機(jī)
技術(shù)參數(shù)
襯底尺寸和類型 :300mm晶圓/單片
工藝溫度: 50 - 500 °C
基片傳送選件:。 半自動裝載,用單片Load lock與磁力操縱桿實現(xiàn)
。25片晶圓盒對盒式全自動裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系統(tǒng)實現(xiàn)
標(biāo)準(zhǔn) :SEMI S2認(rèn)證
前驅(qū)體:。液態(tài),固態(tài),氣態(tài),臭氧源
。等離子體(僅供200mm晶圓使用,最多4路氣體)
。前驅(qū)源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務(wù)
。6條獨立源管線,最多加載8個前驅(qū)體源(最多12個前驅(qū)體源,加上plasma管路共7根獨立源管線)
重量:820 kg
尺寸:(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
選件: 集群工具,PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng),N2發(fā)生器,尾氣處理,定制設(shè)計,與工廠軟件連接服務(wù)。
驗收標(biāo)準(zhǔn) :。標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗收標(biāo)準(zhǔn)為Al2O3工藝,
。其他工藝可具體協(xié)商:其他工藝、應(yīng)用具體驗收標(biāo)準(zhǔn)如:
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學(xué)性能