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超高分辨散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 - neaSNOM系統(tǒng)

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  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/17 22:06:01
  • 訪問次數(shù)305
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
超高分辨散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 - neaSNOM系統(tǒng),是德國neaspec公司推出的第三代散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(簡稱s-SNOM),其采用了化的散射式核心設(shè)計(jì)技術(shù),極大的提高了光學(xué)分辨率,并且不依賴于入射激光的波長,能夠在可見、紅外和太赫茲光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)于10nm空間分辨率的光譜和近場(chǎng)光學(xué)圖像。
超高分辨散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 - neaSNOM系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

超高分辨散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 - neaSNOM系統(tǒng)

neaSNOM是德國neaspec公司推出的第三代散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡(簡稱s-SNOM),其采用了化的散射式核心設(shè)計(jì)技術(shù),極大的提高了光學(xué)分辨率,并且不依賴于入射激光的波長,能夠在可見、紅外和太赫茲光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)于10nm空間分辨率的光譜和近場(chǎng)光學(xué)圖像。由于其高度的可靠性和可重復(fù)性。neaSNOM業(yè)已成為納米光學(xué)領(lǐng)域熱點(diǎn)研究方向的科研設(shè)備,在等離基元、納米FTIR和太赫茲等眾多研究方向得到了許多重要科研成果。

技術(shù)特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì):

•neaSNOM是目前世界上成熟的s-SNOM產(chǎn)品

•保護(hù)的散射式近場(chǎng)光學(xué)測(cè)量技術(shù)

——的*10 nm空間分辨率

•的高階解調(diào)背景壓縮技術(shù)

——在獲得10nm空間分辨率的同時(shí)保持*的信噪比

•保護(hù)的干涉式近場(chǎng)信號(hào)探測(cè)單元

•的贗外差干涉式探測(cè)技術(shù)

——能夠獲得對(duì)近場(chǎng)信號(hào)強(qiáng)度和相位的同步成像

•保護(hù)的反射式光學(xué)系統(tǒng)

——用于寬波長范圍的光源:可見、紅外以至太赫茲

•高穩(wěn)定性的AFM系統(tǒng),

——同時(shí)優(yōu)化了納米尺度下光學(xué)測(cè)量

•雙光束設(shè)計(jì)

——*的光學(xué)接入角:水平方向180°,垂直方向60°

•操作和樣品準(zhǔn)備簡單

——僅需要常規(guī)的AFM樣品準(zhǔn)備過程

超高分辨散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡原理介紹和功能介紹視頻:

重要應(yīng)用領(lǐng)域:

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