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金/碳鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/20 20:16:41
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)265
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專(zhuān)業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶(hù)特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性?xún)r(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶(hù)提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶(hù)群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶(hù)需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性?xún)r(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶(hù)提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
美國(guó)Denton Vacuum 金/碳鍍膜機(jī),內(nèi)置泵系統(tǒng),極短的沉積時(shí)間,一致的沉積參數(shù),圖形界面彩色觸摸板.
金/碳鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

美國(guó)Denton Vacuum 金/碳鍍膜機(jī)

詳細(xì)介紹

丹頓真空公司位于美國(guó)費(fèi)城,是世界真空鍍膜設(shè)備制造商。 自一九年成立至今丹頓已為客戶(hù)制造了數(shù)千臺(tái)多種規(guī)格的蒸發(fā)設(shè)備、濺射和PECVD鍍膜系統(tǒng),用于大型工業(yè)生產(chǎn)、科研開(kāi)發(fā)和小規(guī)模制造。 丹頓用于科研開(kāi)發(fā)和小規(guī)模制造的中小型鍍膜設(shè)備據(jù)美國(guó)*。

蒸發(fā)膜的厚度分布

蒸發(fā)源的排放分布特性可用于確定真空室中用于生產(chǎn)均勻厚度涂層的正確幾何形狀。

在大孔徑襯底上或者在裝載有許多小襯底的架子上生產(chǎn)均勻厚度的涂層可以通過(guò)對(duì)裝有測(cè)試件的架子進(jìn)行重復(fù)試驗(yàn)來(lái)完成。從一次試運(yùn)行到下一次試運(yùn)行,有意改變了幾何形狀 - 例如蒸發(fā)源的偏移量增加了,直到找到排列。

在本文中,我們首先測(cè)量了位于已知徑向距離處的測(cè)試件上的涂層的厚度,在真空蒸發(fā)室中的單個(gè)旋轉(zhuǎn)平板架上,并使用這些數(shù)據(jù)來(lái)查找源發(fā)射函數(shù)。然后使用已知的發(fā)射函數(shù)來(lái)確定在直徑上產(chǎn)生厚度均勻性的源偏移和弧線(xiàn)曲率。

更低的成本...更高的投資回報(bào)率

離子輔助沉積可提供高要求的光學(xué)應(yīng)用所需的高品質(zhì),無(wú)缺陷,低應(yīng)力,環(huán)境穩(wěn)定(無(wú)漂移)的薄膜。

您將受益于:

獨(dú)立控制離子電流密度和離子能量以?xún)?yōu)化薄膜性能
長(zhǎng)期運(yùn)行,氧氣或氮?dú)夥磻?yīng)氣體穩(wěn)定運(yùn)行,延長(zhǎng)運(yùn)行時(shí)無(wú)過(guò)程漂移

冷陰極離子源是差分泵浦器件,等離子體腔室的一端通向真空環(huán)境。離子源的操作參數(shù)和薄膜的質(zhì)量受控制真空度的參數(shù)的影響。在抽速很高的系統(tǒng)中制作好的薄膜要容易得多。當(dāng)比較IAD薄膜沉積參數(shù)時(shí),壓力的差異可能是由泵浦速率引起的。

Desk V HP 專(zhuān)用電子顯微鏡樣品制備


– 金/碳鍍膜機(jī)特點(diǎn)(SEM / TEM / FE-SEM)

● 內(nèi)置泵系統(tǒng)
● 極短的沉積時(shí)間
● 一致的沉積參數(shù)
● 圖形界面彩色觸摸板
● 薄膜厚度控制
● 樣品清潔的蝕刻模式
● 多樣靶材材料選擇
● 更多可選功能

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