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電流體噴印設(shè)備-HEIJ-B型

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱廣州譽(yù)立電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2021/7/18 20:07:28
  • 訪問次數(shù)168
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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廣州譽(yù)立電子科技有限公司是一家集科、工、貿(mào)于一體的公司——公司總部設(shè)立在廣州,致力于成為一家綜合性專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)、技術(shù)服務(wù)及銷售于一體的公司。
廣州譽(yù)立電子科技有限公司經(jīng)營教學(xué)科研實(shí)驗(yàn)室設(shè)備及提供產(chǎn)品研發(fā)設(shè)計(jì)輔助服務(wù), 我們配備了專業(yè)的工程師及銷售人員,經(jīng)過*在各高等院校、高中職院校、大中型企業(yè)的扎根與服務(wù),與廣大用戶建立起了良好的溝通渠道,拉近了服務(wù)距離,及時解決用戶的需求與遇到的問題,贏得了廣泛的贊譽(yù)及肯定,使公司獲得越來越多的信任和支持。 我公司主要經(jīng)營范圍有:
    一、儀器方面:包括光電、物理、建筑、化學(xué)、食品、生物等方面的實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備及其維修服務(wù);
    二、光學(xué)平臺:公司開發(fā)了多款國內(nèi)技術(shù)指標(biāo)的光學(xué)平臺;
    三、技術(shù)服務(wù):為您提供一體化光機(jī)電研發(fā)、優(yōu)化設(shè)計(jì)并提供全面解決方案,助力您的新產(chǎn)品研發(fā) 。經(jīng)過近多年的努力實(shí)踐, 我們在光學(xué)元件、光學(xué)部件、光學(xué)儀器、醫(yī)療設(shè)備整體設(shè)計(jì)等方面積累了豐富的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、檢測、組裝及調(diào)試經(jīng)驗(yàn),具備完整的設(shè)計(jì)生產(chǎn)體系.我們的產(chǎn)品涉及聚焦、擴(kuò)束、放映、光纖輸出、遠(yuǎn)心成像、微顯等種類.主要用于影像、工業(yè)印刷、彩擴(kuò)、自動控制等領(lǐng)域。光學(xué)元件成品種類豐富,工藝*,擁有國內(nèi)生產(chǎn)、檢驗(yàn)設(shè)備,更重要的是我們有一批經(jīng)驗(yàn)豐富的設(shè)計(jì)及裝調(diào)人員。
  廣州譽(yù)立電子科技有限公司一貫秉持“價(jià)值、責(zé)任、使命”的企業(yè)精神,視為客戶和員工創(chuàng)造價(jià)值為企業(yè)目標(biāo),視企業(yè)信譽(yù)為企業(yè)*責(zé)任,肩負(fù)起社會責(zé)任,始終堅(jiān)持以優(yōu)質(zhì)服務(wù)為宗旨,把滿意地解決顧客的需求作為我們工作的榮耀,為廣大客戶提供貼心、好的采購體驗(yàn)。

光纖光譜儀,光學(xué)平臺,光譜儀,光具座
電流體噴印設(shè)備-HEIJ-B型
電流體噴印設(shè)備-HEIJ-B型 產(chǎn)品信息




    廣州譽(yù)立電子科技代理的科研型電流體噴印設(shè)備,源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎;配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動平臺、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。


HEIJ-B型

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規(guī)格指標(biāo):

型號說明

B:點(diǎn)噴/紡絲工藝

設(shè)備特點(diǎn)

桌面式,重量僅75公斤

供墨系統(tǒng)

氣壓供墨@1kPa(可選配流量泵)

高壓電源

±3000V@直流/方波

打印頻率

1000Hz

打印基臺

100×100mm2,真空吸附

打印速度

2 DOF@100mm/s

定位/重復(fù)精度

±25μm / ±15μm

視覺系統(tǒng)

單側(cè)觀測相機(jī)

圖形格式

支持矢量圖、位圖,內(nèi)置基本圖元(HEIJ-P支持曲面打印)

工藝指標(biāo)

點(diǎn)噴最小直徑 <1μm、打線最小線寬  <1μm、制膜最小厚度 ~50nm


應(yīng)用領(lǐng)域 Applications

適用各類有機(jī)/無機(jī)墨水,包括聚合物、樹脂、像素點(diǎn)、量子點(diǎn)、金屬納米粒子墨水、納米銀線、鹽溶液、光刻膠、碳納米管、石墨烯、DNA、蛋白質(zhì)等

 

設(shè)備優(yōu)勢:

工藝分辨率:點(diǎn)噴直徑<1μm、紡絲線寬<1μm、霧化薄膜厚度~50nm

提供高性價(jià)比電噴印平臺,助力顯示/材料/能源/生物等領(lǐng)域科學(xué)研究與應(yīng)用

 

應(yīng)用細(xì)分領(lǐng)域:

光電顯示:量子點(diǎn)、像素點(diǎn)、TFT、光提取等

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電子傳感:薄膜器件、可拉伸器件、電極線等

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光學(xué):光刻膠圖案、微結(jié)構(gòu)掩膜版、微透鏡等

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材料:晶體生長,材料修復(fù)、薄膜沉積等

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生物醫(yī)藥:纖維支架、微量輸送等

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