廣州譽(yù)立電子科技代理的科研型電流體噴印設(shè)備,是源自華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的高分辨率電流體噴印原創(chuàng)技術(shù),獲2017年湖北省自然科學(xué)一等獎和2014年日內(nèi)瓦發(fā)明展金獎;配置高速視覺系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動平臺、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊,適用1-10000cPs粘度的有機(jī)/無機(jī)墨水,集成按需點(diǎn)噴、紡絲直寫、霧化制膜三種打印模式,支持矢量圖、位圖等圖形輸入,高精度制備微納級點(diǎn)/點(diǎn)陣、線/曲線、薄膜結(jié)構(gòu)等復(fù)雜微納圖案。
HEIJ-B型
規(guī)格指標(biāo):
型號說明 | B型:點(diǎn)噴/紡絲工藝 |
設(shè)備特點(diǎn) | 桌面式,重量僅75公斤 |
供墨系統(tǒng) | 氣壓供墨@1kPa(可選配流量泵) |
高壓電源 | ±3000V@直流/方波 |
打印頻率 | 1000Hz |
打印基臺 | 100×100mm2,真空吸附 |
打印速度 | 2 DOF@100mm/s |
定位/重復(fù)精度 | ±25μm / ±15μm |
視覺系統(tǒng) | 單側(cè)觀測相機(jī) |
圖形格式 | 支持矢量圖、位圖,內(nèi)置基本圖元(HEIJ-P支持曲面打印) |
工藝指標(biāo) | 點(diǎn)噴最小直徑 <1μm、打線最小線寬 <1μm、制膜最小厚度 ~50nm |
應(yīng)用領(lǐng)域 Applications
適用各類有機(jī)/無機(jī)墨水,包括聚合物、樹脂、像素點(diǎn)、量子點(diǎn)、金屬納米粒子墨水、納米銀線、鹽溶液、光刻膠、碳納米管、石墨烯、DNA、蛋白質(zhì)等
設(shè)備優(yōu)勢:
工藝分辨率:點(diǎn)噴直徑<1μm、紡絲線寬<1μm、霧化薄膜厚度~50nm
提供高性價(jià)比電噴印平臺,助力顯示/材料/能源/生物等領(lǐng)域科學(xué)研究與應(yīng)用
應(yīng)用細(xì)分領(lǐng)域:
光電顯示:量子點(diǎn)、像素點(diǎn)、TFT、光提取等
電子傳感:薄膜器件、可拉伸器件、電極線等
光學(xué):光刻膠圖案、微結(jié)構(gòu)掩膜版、微透鏡等
材料:晶體生長,材料修復(fù)、薄膜沉積等
生物醫(yī)藥:纖維支架、微量輸送等