高溫/高壓池HTHP
在條件下進(jìn)行的原位分析附件
產(chǎn)品簡介
高科技產(chǎn)品和現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)過程需要在溫度和壓力條件下的原位分析。Specac的高溫高壓池在應(yīng)用非常穩(wěn)定,效果出色,能解決非常復(fù)雜的實(shí)驗
Specac高溫/高壓池有能力再創(chuàng)造這些條件,進(jìn)行光譜分析樣品或模擬實(shí)驗室的過程。
樣品池設(shè)計用于高光學(xué)通量,并允許在多種目的分析配置、透射、反射和雙重之間進(jìn)行簡單交換(見圖1,2,3)。
圖1 透射分析模式 |
圖2 反射分析模式 |
圖3雙重分析模式 |
主要特征
ü 條件光譜儀--可編程控制溫度*高可達(dá)800℃ ,壓力范圍從真空到1000psi
ü 多目的分析儀--透射、鏡面反射和雙重模式
ü 優(yōu)化設(shè)計--允許在分析模式之間進(jìn)行簡單交換
ü 安全和可靠的結(jié)構(gòu)--堅固耐用的結(jié)構(gòu)、經(jīng)過安全驗證的電子器件以及安全隔膜
應(yīng)用范圍
ü 組件失效分析
ü 分解研究
ü 原位反應(yīng)監(jiān)測
ü 表面反射率測試
ü 過程氣體分析,催化反應(yīng)
特性及操作
高溫/高壓池可以使用透射、鏡面反射和雙重模式來分析固體樣品,以及靜態(tài)或流動傳輸模式的過程氣體。樣品溫度可高達(dá)800℃,樣品池可在真空到1000psi壓力下使用。
樣品池窗片和主體可獨(dú)立加熱和控制到高達(dá)200℃的溫度,可阻止內(nèi)部的材料凝結(jié)后附著到ZnSe窗片上。水冷上下部分阻止對光譜儀樣品倉內(nèi)的樣品過度加熱,維持表面在一個安全的溫度。
可通過更換樣品池主體上的光學(xué)加壓窗片組件并安裝到基板上來進(jìn)行透射(*大樣品尺寸13mm)和鏡面反射模式切換。
簡單的重新定位樣品支架/加熱器組件,將加熱的樣品放到光束下的器皿中,即可獲得分解模式。樣品在不同溫度得到的氣體可以被分析出來。樣品池可為氣體分析或清洗提供穩(wěn)定的氣流。樣品池體積為80ml。
樣品池溫度使用一個可手動或通過計算機(jī)編程的專用的控制器來調(diào)節(jié)。設(shè)計結(jié)合了一系列重要安全特征。尤其是,樣品池的所有的電源供應(yīng)都符合加拿大標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(CSA)規(guī)定(30V或更低),溫控器在熱電偶輸入上安裝有開路探測可阻止過熱。
樣品池本身安裝了一個安全隔板可防止偶然的過壓,如有需要,其可以安裝到通風(fēng)櫥中或其他地方。標(biāo)準(zhǔn)的樣品池是耐用的316不銹鋼制成的,如有需要可以拆開進(jìn)行*的清潔。
訂購信息
GS05850高溫/高壓池 不含反射附件
包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架,可
編程高穩(wěn)定性溫控器。
請光譜儀制造廠家和型號。
GS05855上等高溫/高壓樣品池系統(tǒng) 含反射附件
包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架,
反射模式楔形加壓窗片組件和反射模式基板,可編程高穩(wěn)定性溫控器。
請光譜儀制造廠家和型號。
GS05860反射模式套裝
包括:可將GS05850 HTHP樣品池轉(zhuǎn)化成上等的HTHP樣品池(GS05855)
的部件套裝
GS05865密封套件備件
GS05867 ZnSe樣品池窗片備件 (經(jīng)過測試和認(rèn)證的)
GS05868分解盤--備用件(2個)
GS05869"安全隔板"備件
可選項
GS05870 HTHP樣品池ESK
GS28000 RS232連接包
GS28001 USB連接包
GS28002 RS485連接包