無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)的典型應用:
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
微通道反應器冷熱源恒溫控制;
小型恒溫控制系統(tǒng)、
蒸餾系統(tǒng)控溫、
材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、
半導體設備冷卻加熱、
真空室制冷加熱恒溫控制。
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃~+200℃ | ||||||||||||
控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度 | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風)cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水)cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規(guī)重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / |
醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置配套微反應釜的應用
醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置配套微反應釜的應用
醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置是醫(yī)藥化工行業(yè)中配套微加熱制冷功能于一體的溫度控制設備,采用全密閉循環(huán)管路系統(tǒng),滿足不同要求下的制冷加熱控溫需求,那么,高低溫循環(huán)裝置在配套微反應釜是怎么應用的呢?
醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置配套微反應釜的作用是使流體混合換熱,能均勻傳熱或瞬時傳熱物料,與反應穩(wěn)定性、換熱效率、反應速度等四個因素密切相關。如果選擇不當,反應結果會不準確,影響反應物料濃度、反應溫度、反應壓力等結果數(shù)據(jù)。因此,微反應釜的高低溫控制非常重要。
微反應器配套醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置進行制冷加熱控溫。準確的溫度控制可以使微反應器避免局部溫度過高的故障,微反應器中的硝化反應具有較大的反應溫度。相應的熱量可以在反應過程中及時移除,提高工藝生產的穩(wěn)定性,避免一些反應散熱不均勻的故障。如果溫度控制不準確,會增加副反應,容易造成一些硝化反應問題。
醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置與微反應器配套使用,共同完成強放熱或制冷控溫件,包括但不包括硝化反應、加成反應、磺化反應等;
配套微反應器的醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置可以連接不同大小不同材質的反應器進行制冷、加熱和溫度控制。為各種吸熱和放熱反應提供相應的冷源和熱源,無錫冠亞高低恩循環(huán)裝置選擇程序控制模式,可設置導熱介質和材料溫差,提供準確的線性材料溫度控制效果。
一般來說,醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置采用全封閉循環(huán)管道,配套微反應器制冷加熱過程中,儲液罐采用導熱介質進行熱脹冷縮,可連續(xù)快速實現(xiàn)溫度轉換,在預期時間內滿足預期溫度要求;
高低溫循環(huán)裝置采用不同的導熱介質,提高了系統(tǒng)的溫度控制響應速度,無錫冠亞滿足設備溫度控制要求,廣泛應用于化工、制藥、、科研等領域。