熱發(fā)射顯微鏡系統(tǒng)(Thermal Emission microscopy system),是半導(dǎo)體失效分析和缺陷定位的常用的三大手段之一(EMMI,THERMAL,OBIRCH),是通過(guò)接收故障點(diǎn)產(chǎn)生的熱輻射異常來(lái)定位故障點(diǎn)(熱點(diǎn)/Hot Spot)位置。
而OPTOTHERM Sentris 熱發(fā)射顯微鏡系統(tǒng),標(biāo)配LOCK IN THERMOGRAPHY鎖相熱成像技術(shù),將鎖相技術(shù)和熱成像技術(shù)有機(jī)結(jié)合,獲得超過(guò)1mk以上的溫度分辨率,對(duì)u漏電流或微短路等導(dǎo)致的缺陷,提供了非常好的解決方案。
Thermal EMMI 在電子及半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用,行業(yè)專家一刀博士有生動(dòng)的描述,thermal 的應(yīng)用/jishu_920621_1_1.html.