在材料涂鍍層及表面分析、薄膜樣品等領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析的好方法。
在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析手段之一。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。
對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料表面涂鍍層分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。
主要特點(diǎn)：
1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價
3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項，如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式
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