日本電子X射線能譜儀，具備大的可調(diào)分析范圍。單色化X射線源可用于高空間分辨率的化學(xué)態(tài)分析。采用全新設(shè)計的用戶界面，進一步提升了可操作性，外觀設(shè)計現(xiàn)代，時尚。采用了Ribbon圖形用戶界面，在用戶友好的環(huán)境中，所有的操作可以只用鼠標就能完成。 新開發(fā)的考夫曼型蝕刻離子源能提供的蝕刻速率為1 nm/分鐘至100 nm /分鐘（SiO2），并允許在寬范圍的設(shè)置。它能夠適用于任何應(yīng)用的剖面分析，不管是精度要求很高的測量還是需要速度的分析。將考夫曼離子源安裝在樣品交換室上可以防止污染測試室。氬氣團簇離子束流適合于有機物樣品分析。紅外線加熱系統(tǒng)能加熱到800 °C 以上。轉(zhuǎn)移艙能保護樣品不暴露在空氣中。
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