型號：W-357HP槽式兆聲波清洗
振蕩方式：用晶體管電路產(chǎn)生自激振蕩
zui大功率：600W
振蕩頻率：1MHz
振蕩器電源：AC200V、220V/6A
振蕩器外形尺寸（mm）W×D×H：360×400×128
使用液溫范圍：20～50℃
硅片清洗中的超聲波與兆聲波技術(shù)
CCID微電子研究部
超聲波清洗技術(shù)：
超聲波清洗是半導(dǎo)體工業(yè)中廣泛應(yīng)用的一種清洗方法,該方法的優(yōu)點是:清洗效果好,操作簡單,對于復(fù)雜的器件和容器也能清除,但該法也具有噪音較大、換能器易壞的缺點。
該法的清理原理如下：在強(qiáng)烈的超聲波作用下（常用的超聲波頻率為20kHz到40kHz左右）,液體介質(zhì)內(nèi)部會產(chǎn)生疏部和密部,疏部產(chǎn)生近乎真空的空腔泡,當(dāng)空腔泡消失的瞬間,
其附近便 產(chǎn)生強(qiáng)大的局部壓力,使分子內(nèi)的化學(xué)鍵斷裂，因此使硅片表面的雜質(zhì)解吸。當(dāng)超聲波的頻率和空腔泡的振動頻率共振時，機(jī)械作用力達(dá)到zui大，泡內(nèi)積聚的大量熱
能，使溫度升高，促進(jìn)了化學(xué)反應(yīng)的發(fā)生。
超聲波清洗的效果與超聲條件（如溫度、壓力、超聲頻率、功率等）有關(guān)，而且提高超聲波功率往往有利于清洗效果的提高，但對于小于1μm的顆粒的去除效果并不太好。該
法多用于清除硅片表面附著的大塊污染和顆粒。
兆聲波清洗技術(shù)：
兆聲波清洗不但保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲波清洗機(jī)的機(jī)理是由高能（850kHz）頻振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對硅片進(jìn)行清洗的。在清洗時，
由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達(dá)到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只
能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。
兆聲波清洗拋光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機(jī)械擦片和化學(xué)清洗兩種方法的作用。目前兆聲波清洗方法已成為拋
光片清洗的一種有效方法。
以下摘自本多清洗機(jī)選型樣本：
W-357系列（兆聲清洗）
超聲波超精密清洗
利用被超聲波加速的水分子進(jìn)行清洗 高頻清洗
自于加速度的超聲波清洗是指被加速的水分子遇到工作，依靠水分子的沖擊力使臟物從工件上剝離。頻率越高效果越好，特別是對于附著力弱非常微小的臟物。加速度跟頻率的2次方成比例，因而頻率越高，波長越短，越適合于清洗微小的臟物。
關(guān)于脈沖噴射（pulse-jet）清洗機(jī)（W-357系列）
隨著半導(dǎo)體的集成度的提高，在硅晶片的清洗工序里，除掉亞微米臟物成了提高成品率的重要因素。利用高頻超聲波進(jìn)行純水的精密清洗能夠符合這個要求。屬于高頻清洗的脈沖噴射清洗是在流水里加入了超聲波，，于清洗晶片，液晶玻璃等。
硅晶片及液晶玻璃的超聲波清洗
對于硅晶片及液晶玻璃的超聲波清洗，需要滿足下面的條件。
1.不會損傷硅晶片
2.除掉亞微米臟物
3.不會發(fā)生臟物的再附著
因此，利用不會發(fā)生空化，但會產(chǎn)生高強(qiáng)度聲壓的高頻超聲波，而且不會發(fā)生臟物的再附著的流水式清洗是的。
清洗除掉微粒子
由于在流水里加上兆赫的高頻超聲波，被加速的水粒子能清洗除掉亞微米的粒子。
因為采用高頻超聲波，不用擔(dān)心對硅晶片的損傷。
適合于半導(dǎo)體CMP研磨后，硬盤，硅晶片，砷化稼鏡面拋光后，光盤原盤研磨后，成膜前的清洗等。
流水式的清凈清洗
流水式＝清洗液一直都是清凈的。不用擔(dān)心液體中的臟物的再附著。 容易組裝于生產(chǎn)線
適合于清洗片狀工件，容易組裝于生產(chǎn)線。
可調(diào)整輸出功率
由于可調(diào)整輸出功率，象磁頭那樣容易破裂的工件也可放心地進(jìn)行清洗。
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