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兩維平臺(XY平臺)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海涉科光電科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/1/30 9:30:42
  • 訪問次數(shù)479
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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  涉科光電總部位于新加坡,是亞洲的光電產(chǎn)品供應(yīng)商,并在中國設(shè)有上海、北京、深圳、成都、武漢等辦事處。涉科光電由一批光電行業(yè)人員組成,除了常規(guī)的產(chǎn)品代理外,主要致力于根據(jù)客戶需求提供解決方案并簡化解決方案,讓客戶能夠?qū)W⒂谧约侯I(lǐng)域的研究。主要產(chǎn)品:激光器/光源/激光加工系統(tǒng),光學(xué)測量儀器/設(shè)備,THz相機(jī)/THZ源,電容傳感測量設(shè)備,霍爾效應(yīng)/塞貝克效應(yīng)測量系統(tǒng),顯微系統(tǒng)/相機(jī)/相增強(qiáng)器,電動位移平臺,光學(xué)平臺等。
光學(xué)儀器
兩維維XY電動平臺重復(fù)定位精度:0.2um 運(yùn)動速度:0-240mm/s 垂直度:10 Arcsec 步長:0.01um 行程:75*50mm~600*600mm 適配于Olympus、Nikon、Leica、Zeiss等品牌正置、倒置顯微鏡,并兼容不同軟件
兩維平臺(XY平臺) 產(chǎn)品信息

     MW公司成立于1946年,總部位于德國Wetzlar(Zeiss和Leica總部所在地),專門研發(fā)、生產(chǎn)、制造相關(guān)運(yùn)動控制配件,包括兩維平臺、電動聚焦單元、玻片裝載裝置、顯微操作手、LED照明等產(chǎn)品。

 

 

1. 基礎(chǔ)版、經(jīng)濟(jì)型

 

型號

BASIC

EK 14 mot 76X30

BASIC

EK 14 mot 76X52

行程

76X30

76X52

重復(fù)精度

<5um

<5um

準(zhǔn)確度

+/-20um

+/-20um

分辨率

   

速度

120mm/s

120mm/s

 

 

2. 一體化(集成控制器、測量反饋裝置)

型號

ECO

EK 75X50 Pilot

行程

76X52

重復(fù)精度

1um(雙向)

準(zhǔn)確度

+/-3um

分辨率

0.05um

速度

120   mm/s

 


3. 高精度(五年質(zhì)保)

型號

Scan

75X30

Scan

75X50

Scan

100X100

Scan

150X150

Scan

200X200

Scan 300X300

行程

75X38

76X52

100X100

150X150

200X200

300X300

重復(fù)精度

1um(雙向)

1um(雙向)

0.2um

0.2um

1um(雙向)

1um

準(zhǔn)確度

+/-3um

+/-3um

+/-3um

+/-3um

+/-3um

+/-5um

分辨率

0.01um

0.01um

0.01um

0.01um

0.01um

0.1um

速度

60-240   mm/s

25-50   mm/s

60-240   mm/s

120-240   mm/s

60-240   mm/s

60-240   mm/s

 

 

4. 高精度,帶測量反饋裝置(五年質(zhì)保)

型號

Scan Plus

75X50

Scan Plus

130X85

Scan Plus

100X100

Scan Plus

150X150

Scan Plus

200X200

Scan Plus

300X300

行程

76X52

130X85

100X100

150X150

200X200

300X300

重復(fù)精度

1um(雙向)

1um(雙向)

0.2um

0.2um

1um(雙向)

1um(雙向)

準(zhǔn)確度

+/-1um

+/-1um

+/-1um

+/-1um

+/-1um

+/-1um

分辨率

0.05um

0.05um

0.05um

0.05um

0.05um

0.05um

速度

50mm/s

180mm/s

120-240mm/s

240mm/s

240mm/s

240   mm/s

 

 

5. 電動聚焦單元

 

型號

MFD   MFD-2     MA 42

Piezo Z stage納米位移臺

行程

直接耦合在顯微鏡Z軸旋轉(zhuǎn)精細(xì)軸上

 

300um

重復(fù)精度

4nm

準(zhǔn)確度

0.5%

分辨率

0.002um

4nm

速度

60   rev/s

Settling   time 25ms

載重 500g

 

6. 手動平臺

除了電動平臺,MW還提供手動平臺,可帶游標(biāo)卡尺或數(shù)字測量裝置,可選行程100X100,150X150,200X200,300X300mm

關(guān)鍵詞:控制器 顯微鏡
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