簡(jiǎn)介 原位X射線散射&透射反應(yīng)裝置(DMHK-XS -200)是一款適用于液體環(huán)境的X射線散射原位測(cè)試(兼容透射模式XAFS)的原位裝置,能夠提供真實(shí)原位水熱環(huán)境、攪拌環(huán)境,溫度、攪拌速率以及中間液層厚度均可適當(dāng)調(diào)節(jié);反應(yīng)釜光學(xué)窗口結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與出射張角可滿足散射和透射測(cè)試需求;反應(yīng)釜在底部集成了磁力攪拌,實(shí)現(xiàn)了反應(yīng)釜內(nèi)部溫控、攪拌的一體化設(shè)計(jì),并在應(yīng)用軟件中集成了溫控和攪拌的顯示及控制功能,充分滿足液體環(huán)境X射線散射&透射原位測(cè)試需求。 主要特點(diǎn) 1. 該原位反應(yīng)釜適用于液體環(huán)境的X射線散射原位測(cè)試(兼容透射模式XAFS),提供真實(shí)原位水熱環(huán)境,溫度及中間液層厚度均可適當(dāng)調(diào)節(jié); 2. 反應(yīng)釜主體外形尺寸:約90*90* 145mm(W*L*H,不含氣路);腔體容積約:10mL; 3. 反應(yīng)釜釜體材質(zhì):PEEK+PPL; 4. 光學(xué)窗口:2個(gè)光學(xué)窗口(PEEK包裹金剛石膜,金剛石膜與液體接觸),180°布置,窗口通光直徑4mm,出射張角2θ≦30°(滿足散射測(cè)試需求),兩側(cè)窗口前端間距約0-2mm; 5. 長(zhǎng)期工作溫度:RT-200℃(設(shè)計(jì)溫度可達(dá)300℃,但不可長(zhǎng)時(shí)間使用,此溫度下密封圈基本是一次性的),控溫精度±1℃; 6. 加熱方式:通過(guò)加熱套給釜體加熱;加熱速率:≤15℃/min; 7. 工作壓力:0.1-5MPa ,頂部數(shù)字式壓力表可監(jiān)測(cè)釜腔壓力,卸荷閥/泄壓閥用于超壓保護(hù)(卸荷閥/泄壓閥開啟/爆破壓力6MPa); 8. 攪拌支持:腔體內(nèi)可放置磁子,底部集成磁力攪拌,攪拌速率0-1200rpm; 9. 水冷接口:預(yù)留水冷接口,可外接水冷機(jī),管徑Φ6mm; 計(jì)算機(jī)控制及顯示:USB/網(wǎng)絡(luò)通訊接口;顯示實(shí)時(shí)溫度、攪拌速率,界面操作,控制加熱溫度、加熱速率和攪拌速率。