簡介
氣固衍射原位裝置(HTHPC-TXRD)是一款為研究氣固相催化劑過程中的結構演變而設計的專用原位裝置。該原位裝置能夠保證氣體對催化劑的浸潤和氣體流動,并能夠承載10bar的氣壓設置。該裝置能夠保證樣品的同步輻射XRD測試(透射式),衍射角不小于30°,同時也能進行同步輻射XAS的數據采集。并可實現加熱溫度500℃的溫度處理。該款設備為氣固相反應過程中催化劑的長程和短程結構都提供了重要的實驗信息。
技術特點
1. 該款原位裝置適用于氣固相反應體系,并能夠在線采集XRD和XAS的實驗數據;
2. 樣品腔室可實現加熱功能,溫度調節(jié)范圍:RT-500℃,溫度控制精度:±1℃;
3. 裝置配備水冷循環(huán)裝置,確保裝置外殼部分不高于60℃;
4. 壓力調節(jié)范圍:1-10bar,并配備溢流閥,一旦氣體壓力超過設定值,會自動泄壓;
5. 能夠實現透射式衍射測試,衍射角>=30°,能夠實現透射式吸收譜測試;
6. 主體采用316L加工得到,窗口采用高純Be窗口;
7. 進氣端氣路進行重新規(guī)劃,確保在非加壓條件下氣體能夠通過樣品流動;
8. 裝置主要包含氣體加熱腔一臺、溫度控制器一臺、水冷循環(huán)機一套、溢流閥一套、樣品架以及窗口材料等