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原位高溫X射線反應(yīng)裝置

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京中研環(huán)科科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/8/18 13:15:49
  • 訪問次數(shù)181
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北京中研環(huán)科科技有限公司是一家專門從事科研材料和設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的創(chuàng)新型企業(yè),力求為科研單位提供優(yōu)質(zhì)的材料和設(shè)備。公司的創(chuàng)始人畢業(yè)于,在相應(yīng)科研領(lǐng)域?qū)W習(xí)和工作多年,深刻了解科研領(lǐng)域“適材難求”的難題。對(duì)科研工作者來說,優(yōu)質(zhì)的原材料及樣品是能否取得高質(zhì)量成果的關(guān)鍵因素。公司在售的原材料和樣品大多經(jīng)過相關(guān)研究人員的實(shí)驗(yàn)考證,力求使大家在使用我們的材料時(shí),用得放心、用得順心、用得省心。 公司擁有一支以多名教授(兼職)、副教授和高級(jí)工程師為主體的技術(shù)團(tuán)隊(duì),在同步輻射技術(shù)及應(yīng)用、高溫高壓實(shí)驗(yàn)技術(shù)、高溫設(shè)備研制與真空設(shè)備研制方面具有多年的實(shí)驗(yàn)和系統(tǒng)集成經(jīng)驗(yàn),對(duì)相關(guān)的研究領(lǐng)域具有深刻的了解,能夠根據(jù)客戶的需求提供可靠的實(shí)驗(yàn)研究方案、便捷的操作維護(hù)和精準(zhǔn)的測(cè)試數(shù)據(jù)。公司自主開發(fā)的高溫高壓實(shí)驗(yàn)設(shè)備、高溫箱式管式爐、原位變溫同步輻射實(shí)驗(yàn)裝置和激光加溫實(shí)驗(yàn)裝置均達(dá)到了水平。公司同高能所、金屬所、物理所、北京大學(xué)、中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)等單位密切合作,執(zhí)著探索、不斷進(jìn)取,以求產(chǎn)品能夠更好地服務(wù)科研。 北京中研環(huán)科科技有限公司始終堅(jiān)持以“圍繞科研、服務(wù)科研”為目標(biāo),力求為科研工作者提供的服務(wù)。經(jīng)過不懈努力、不斷調(diào)研、不斷試用,公司從眾多的儀器生產(chǎn)廠家中遴選了一批質(zhì)優(yōu)價(jià)廉的產(chǎn)品并達(dá)成了合作協(xié)議,力求為實(shí)驗(yàn)室建設(shè)提供一站式服務(wù)。我們的服務(wù)宗旨是:您交給我們房間,我們還您現(xiàn)代化的實(shí)驗(yàn)室,您確定裝修和采購(gòu)方案,我們提供一站式服務(wù),節(jié)省您的時(shí)間做研究。 我們將堅(jiān)持以市場(chǎng)為導(dǎo)向,以的產(chǎn)品和技術(shù)為核心,建立更加完善的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和售后服務(wù)體系,更好的服務(wù)于客戶。
電熱壓片機(jī)
原位高溫X射線反應(yīng)裝置
原位高溫X射線反應(yīng)裝置 產(chǎn)品信息

簡(jiǎn) 介:

原位高溫X射線反應(yīng)裝置(HT-XRD/AS-1200)是一款專門為高溫條件下探測(cè)樣品物相結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計(jì)的原位樣品臺(tái)系統(tǒng),能夠匹配同步輻射X射線衍射和X射線吸收兩類光譜表征。該裝置系統(tǒng)主要包含有高溫爐體裝置,水冷系統(tǒng),溫度控制系統(tǒng)(程序控制),樣品臺(tái)等多個(gè)部件及相關(guān)配件。采用環(huán)境場(chǎng)加熱方式,確保樣品處于恒溫點(diǎn),使用溫度1200℃。該原位裝置十分適用于研究不同材料在高溫變溫情況下的物相結(jié)構(gòu)研究,是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。

主要特點(diǎn)

1. 該裝置系統(tǒng)主要包含有高溫爐體裝置,水冷系統(tǒng),溫度控制系統(tǒng)(程序控制),樣品臺(tái)等多個(gè)部件及相關(guān)配件;

2. 該裝置可在上海光源進(jìn)行原位XRDXAS測(cè)試;

3. 該裝置采用環(huán)場(chǎng)加熱方式對(duì)樣品中心處進(jìn)行加熱,保證樣品處的溫度均勻;

4. 溫度控制范圍:RT-1200℃;溫度控制精度:±1℃,配備程序控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)遠(yuǎn)程電腦控制溫度;

5. 樣品臺(tái)采用陶瓷加工而成,熱電偶采用k型熱電偶,置于樣品正下方;

6. 樣品架可以?shī)A持直徑2-15mm的固體樣品,且樣品架在1200℃的溫度下不與硅酸鹽材料(Lu2SiO5,Y2SiO5,Gd2SiO5)發(fā)生化學(xué)反應(yīng);

7. 光能量:0.12398nm(約為10kev)角度2θ 8-55度;

8. 裝置采用BN陶瓷片和高純鈹窗作為X射線光窗,能夠承受不高于2個(gè)大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境;

9. 配備水冷系統(tǒng),保證主體反應(yīng)腔室的溫度不高于60℃,保證實(shí)驗(yàn)的安全;

關(guān)鍵詞:熱電偶
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