應(yīng)用十七、氦質(zhì)譜檢漏儀用于 PECVD 鍍膜設(shè)備檢漏
德國Pfeiffer HLT 560 氦質(zhì)譜檢漏儀用于PECVD 鍍膜設(shè)備檢漏應(yīng)用實(shí)例(福建的太陽能晶體矽電池制造公司)
一、鍍膜設(shè)備檢漏原因
福建的太陽能晶體矽電池制造公司, 專業(yè)生產(chǎn)太陽能單晶和多晶電池片. 該公司在生產(chǎn)過程中應(yīng)用了PECVD沉積 Si3N3減反層, 4-5天設(shè)備需要保養(yǎng)一次(清潔MASK, 更換支架等等), 由于是清潔設(shè)備內(nèi)部, 所以存在內(nèi)部腔體密封性失效的可能. 如果鍍膜設(shè)備密封性不好, 鍍出來的產(chǎn)品膜厚會(huì)不均勻, 產(chǎn)品四周膜參數(shù)會(huì)不合格.
如果鍍膜設(shè)備保養(yǎng)完成后, 能做一次檢漏, 就可以避免很多不合格產(chǎn)品的產(chǎn)生, 達(dá)到節(jié)約生產(chǎn)成本的目的. 德國 Pfeiffer的HLT 560 氦質(zhì)譜檢漏儀具有操作簡(jiǎn)單, 反應(yīng)靈敏的特點(diǎn), 得到了客戶的青睞.
二、鍍膜設(shè)備檢漏操作
示意圖如下:
(1).將氦質(zhì)譜檢漏儀 HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.
(2).啟動(dòng)檢漏儀, 檢漏儀開始抽取密閉腔體中的氣體,同時(shí)啟動(dòng)鍍膜設(shè)備的泵組.
(3).在鍍膜機(jī)內(nèi)部的真空下降到一定程度的時(shí)候,如0.5 mbar以下的時(shí)候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標(biāo)準(zhǔn)保養(yǎng)時(shí)動(dòng)到的部位.這時(shí)需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化.當(dāng)漏率上升或漏率值變化劇烈的時(shí)候,及時(shí)指出漏點(diǎn)所在位置,并做記號(hào).
(4).所有可疑點(diǎn)都檢測(cè)完成后,關(guān)閉檢漏儀,停下鍍膜機(jī)的泵組并將鍍膜機(jī)打開,將檢測(cè)出的漏點(diǎn)進(jìn)行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成后,再按照前敘步驟檢查一遍,直到所有漏點(diǎn)都被清除,檢漏過程完成.
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