一、產(chǎn)品概述:
750J擺錘式?jīng)_擊試驗機是對金屬材料在動負(fù)荷下抵沖擊性能進(jìn)行檢測的儀器,能連續(xù)大量地做金屬沖擊試驗,采用全自動化控制,控制系統(tǒng)采用進(jìn)口可編程控制器(PLC),通過微機軟件程序控制取擺、沖擊試驗的全過程。顯示沖擊吸收功、沖擊韌性、擺錘的旋轉(zhuǎn)角度及打印試驗報告等。操作簡便、安全可靠,工作效率高。本機配備了防護(hù)網(wǎng)罩,為用戶的安全操作提供了條件。是金屬材料生產(chǎn)廠家、質(zhì)檢部門的檢測儀器,也是科研單位進(jìn)行新材料研究的測試儀器。 750J擺錘式?jīng)_擊試驗機是我公司在國內(nèi)推出的一種新型沖擊試驗機產(chǎn)品,經(jīng)過近幾年不斷地技術(shù)更新和完善,目前該產(chǎn)品已達(dá)到技術(shù)水平,該產(chǎn)品還出口到澳大利亞、印度、馬來西亞、土爾其、巴西等國家,并獲得國內(nèi)外廣大用戶的。
二、使用領(lǐng)域:
本750J擺錘式?jīng)_擊試驗機適用于機械冶金,航空航天,大專院校、科研院所等各領(lǐng)域用于測量金屬材料的沖擊韌性值和金屬材料在動負(fù)荷下的抗沖擊能力。
三、依據(jù)標(biāo)準(zhǔn):
GB/T3038—2002擺錘式?jīng)_擊試驗機的檢驗 GB/T229—2007金屬夏比缺口沖擊試驗方法 JJG145-82《擺錘式?jīng)_擊試驗機》
四、主要特點:
設(shè)備采用德國西門子PLC作為下位機控制,品牌電腦作為上位機控制,上位機程序采用VB編程,RS232通訊方式,完成上下位機的數(shù)據(jù)交換和指令傳送,充分利用PC機的強大功能進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,報表處理等。采用內(nèi)米控高精度的旋轉(zhuǎn)編碼器來獲取擺錘的實時位置,獲得沖擊吸收功。具有系統(tǒng)可靠、穩(wěn)定,數(shù)據(jù)準(zhǔn)確等特點。
五、750J微機控制擺錘式?jīng)_擊試驗機主要技術(shù)指標(biāo):
1.沖擊能量: ( 500J)、750J
2.擺錘力矩 267.9492NM 401.9238NM
3.標(biāo)度盤刻度范圍:0~500J,每小格分度值5J;
4.沖擊刀刃圓弧半徑: 2~2.5mm;
5.擺錘中心至沖擊點(試驗中心)距離: 800 mm
6.擺錘預(yù)揚角: 150°
7.沖擊速度: 5.4~5.58 m/S
8.試樣支座跨距: 40 mm
9.試樣支座端部圓弧半徑: 1-1.5 mm
10.試樣支座支撐面傾角: 0°
11.沖擊刀圓弧半徑: 2-2.5 mm
12.沖擊刀兩斜面夾角: 30°
13.沖擊刀刃厚度: 16 mm
14.刀 刃: 國標(biāo)
15.試樣規(guī)格: 10×10×55 mm、10×7.5×55 mm 10×5×55 mm
16.計算機顯示最小分辨值: 0.1J
17.試驗機重量: 約1500KG
18.試驗機外形尺寸: 2300*600*1400 mm
19.電源: 三相四線制50HZ、380V、550W(主電機)
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延伸閱讀:
750J擺錘式?jīng)_擊試驗機電氣系統(tǒng)的維護(hù)
l、保證750J沖擊試驗機電壓穩(wěn)定,電壓波動不超過士10%;保持室內(nèi)環(huán)境相對濕度不低于80%;根據(jù)環(huán)境情況定期給電氣測控系統(tǒng)除塵。
2、每天使用沖擊試驗機前先檢查CS控制器后面的插頭是否插好。注意:CS控制器后面的插頭是一一對應(yīng)的,如果插錯可能造成設(shè)備故障,插拔插頭前一定要關(guān)閉控制器。
3、每年檢查一次750J擺錘式?jīng)_擊試驗機電氣柜內(nèi)的交流部分接線端子是否松動,因為交流部分電流較大,如果接線端子松動可能造成接觸不良,造成電器元件燒壞。
750J擺錘式?jīng)_擊試驗機限位體相關(guān)
由于750J擺錘式?jīng)_擊試驗機采用速放式?jīng)_擊氣缸,沖擊軸在缸體內(nèi)一直處于加速狀態(tài),當(dāng)沖擊軸與臺體碰撞后,沖擊軸回彈,但缸內(nèi)仍有氣壓作用,沖擊軸繼續(xù)向前運動,有可能與臺體產(chǎn)生第二次碰撞,為此,沖擊軸與臺體碰撞后,應(yīng)立即放氣,但由于750J沖擊試驗機氣缸容積較大、壓力較高,要在幾毫秒內(nèi)完成排氣過程難以實現(xiàn)。
因此采用機械阻隔的辦法,設(shè)計了限位體,限位體與基座相連,沖擊軸墊層端面與臺體的距離為600mm,沖擊軸軸肩至臺體的距離為,當(dāng)沖擊軸次撞擊臺體后繼續(xù)向前運動時,限位體擋住了沖擊軸的軸肩,使剩余沖擊能量直接傳遞到基座上。