充滿信心地邁步向前
全新 Zetasizer Ultra 是用于執(zhí)行顆粒與分子粒度、顆粒電荷和顆粒濃度的系統(tǒng)，是整個(gè) Zetasizer 系列中最智能、靈活度的儀器。
這一旗艦型儀器充分利用了 ZS Xplorer 軟件的易用性、分析速度和數(shù)據(jù)可靠性等優(yōu)勢，并且提供了兩種的測量功能：多角動態(tài)光散射 (MADLS®) 和顆粒濃度，從而幫助您更深入地了解樣品。
概述
Zetasizer Ultra 綜合了功能大的 DLS 與 ELS 系統(tǒng)，它采用了非侵入背散射 (NIBS®) 和的多角動態(tài)光散射 (MADLS) 技術(shù)來測量顆粒與分子粒度。NIBS 的多用性和靈敏度可測量廣泛的濃度范圍，而 MADLS 則能讓您在這些關(guān)鍵測量當(dāng)中更精細(xì)地了解樣品粒度分布。
MADLS 的擴(kuò)展能夠直接分析顆粒濃度。顆粒濃度的測量無需校準(zhǔn)，適合于廣泛的材料，無需或只需極少稀釋，并且使用快捷，這一切都使其成為一種理想的篩選技術(shù)。這是 Zetasizer Ultra 的一項(xiàng)功能，甚至可以運(yùn)用于以前非常難測量的病毒和 VLP 等樣品。
Zetasizer Ultra 還利用 M3-PALS 技術(shù)提供了靈敏度的電動電勢和電泳遷移率測量。我們具有性價(jià)比的一次性折疊毛細(xì)管樣品池允許使用我們的擴(kuò)散障礙法在極低樣品量的情況下進(jìn)行測量，并且不會產(chǎn)生直接樣品電極接觸。此類測量提供的信息可以地指出樣品穩(wěn)定性以及/或者聚集傾向。
增加的恒流模式可在高導(dǎo)電性介質(zhì)中測量電泳遷移率和電動電勢，從而減少由于較高離子濃度下的電極極化而出現(xiàn)的錯(cuò)誤。
工作原理
Zetasizer Ultra 在一種緊湊型裝置中包含了兩種技術(shù)，并且擁有一系列選件及附件，以便優(yōu)化并簡化不同樣品類型的測量。
動態(tài)光散射法(DLS)用于測量粒度及分子大小。DLS 可測量作布郎運(yùn)動顆粒的擴(kuò)散情況，并采用斯托克斯-愛因斯坦方程將其轉(zhuǎn)化為顆粒粒度與粒度分布。使用的非侵入式背散射 (NIBS) 技術(shù)可在泛的粒度及濃度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)的靈敏度。DLS 是一種靈活性的顆粒測量方法，具有快速、準(zhǔn)確、可重復(fù)的特點(diǎn)。它只需要少量的樣品即可完成分析，并且可做到無損。這種技術(shù)不考慮材料因素，因此具有極廣泛的適用性。
Zetasizer Ultra 還采用了多角動態(tài)光散射法 (MADLS)，可提供分辨率、不受角度影響的粒度分布分析。MADLS 還允許在均質(zhì)樣品類型中對顆粒濃度進(jìn)行簡單且無需校準(zhǔn)的測量，這一應(yīng)用可涵蓋廣泛材料。
電泳光散射法 (ELS)用于測量電動電勢。分子和顆粒在施加的電場作用下做電泳運(yùn)動，其運(yùn)動速度與電荷直接相關(guān) 使用型激光相干技術(shù) M3-PALS(相位分析光散射法)檢測其速率。這樣即可計(jì)算電泳遷移率，并得出樣品的電動電勢及電動電勢分布。
ELS 的運(yùn)用一般關(guān)系到穩(wěn)定性和配方應(yīng)用。不帶凈電荷的顆?；蚍肿涌赡軙澈显谝黄?，可能會是系統(tǒng)遇到的一種困難(例如可能是附聚物的配方)。不帶凈正極或凈負(fù)極電荷的顆?；蚍肿訉⒏玫乇舜吮３志嚯x，從而形成穩(wěn)定的系統(tǒng)。包含這些顆?；蚍肿拥呐浞綐O易受其電荷態(tài)的影響，對 pH 值、添加劑濃度和離子濃度等配方屬性的變更可能會影響產(chǎn)品穩(wěn)定性和儲存期。
ZS Xplorer 軟件套件
該軟件的設(shè)計(jì)非常簡單易用，即使是在復(fù)雜方法的快速構(gòu)建中也同樣如此。關(guān)于要測量的樣品、其條件以及變量的信息在運(yùn)行開始時(shí)輸入，并且 ZS Xplorer 將根據(jù)這些信息對用于該樣品的方法進(jìn)行智能優(yōu)化。由深度學(xué)習(xí)支持的數(shù)據(jù)質(zhì)量指導(dǎo)系統(tǒng)可提供關(guān)于結(jié)果的反饋，并針對如何對數(shù)據(jù)進(jìn)行必要的改進(jìn)提出清晰的建議。
選件
MPT-3 自動滴定儀可幫助研究 pH 值變化的影響。
一系列一次性和可重復(fù)使用的樣品池可優(yōu)化測量不同樣品體積和濃度，包括新的低量一次性粒度測量樣品池套件，由于它可以抑制對流，所以既能測量小到 3uL 的粒度，也能測量 DLS 的上限粒度范圍。
技術(shù)指標(biāo)
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