- 設備用途
本設備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛的條件下進行加壓加熱燒結處理,以便獲得高致密度的產(chǎn)品,例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等。
- 設備特點
1.雙層SUS304爐體結構,中間通以冷卻水,有效降低爐體表面溫度,減少高溫傷害,降低對環(huán)境的影響;
2.框架式雙立柱支承結構,采用型材焊接,整體加工,保證設備的可靠性;
3.采用保溫材料及隔熱結構,導熱系數(shù)低,保溫效果好,即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量,節(jié)約能耗;
4.溫度范圍廣,加熱元件多種可選,例如石墨、鉬、鎢、鉭等,在合適的保護氣氛中,溫度可達2800℃,可適應不同材料的熱壓燒結;
5.多樣化真空系統(tǒng)配置,根據(jù)工藝選擇不同等級的真空度;
6.設有充放氣系統(tǒng),既可以選擇在真空環(huán)境中進行熱壓燒結,也可以選擇在惰性氣氛或還原性氣氛中進行熱壓燒結;
7.人性化配置,既可以手動操作,也可以實現(xiàn)一鍵智能操作;
8.一爐多用,可作為單純的真空或氣氛燒結爐使用;
9.型式多樣化,立式上出料、立式側開門出料、單向加壓、雙向加壓等等,任意選擇;
10.本產(chǎn)品接受非標定制。
- 設備參數(shù)
型號 | 工作區(qū) 尺寸 | 溫度 | 冷態(tài)極限真空度 | 壓升率 | 額定功率 | 壓力 | 位移 | 充氣壓力 |
HVHP-20T | Φ160×160 | 2200 | 5×10-3 | 3 | 40 | 20 | 100 | 0.05 |
HVHP-50T | Φ250×250 | 2200 | 5×10-3 | 3 | 75 | 50 | 150 | 0.05 |
HVHP-100T | Φ300×320 | 2200 | 5×10-3 | 3 | 100 | 100 | 150 | 0.05 |
注:以上技術參數(shù)可根據(jù)工藝進行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術方案和協(xié)議為準。 |