蔡司X射線顯微鏡Versa憑借優(yōu)異的大工作距離高分辨率（RaaD）的特性，成為了研究人員和科學(xué)家的“有力幫手”。在相對(duì)大工作距離下也能
保持高分辨率，有助于產(chǎn)生意義非凡的科學(xué)見解和發(fā)現(xiàn)。隨著當(dāng)今技術(shù)的快速發(fā)展，對(duì)分析儀器也提出了更高的要求，而蔡司Xradia 600 Versa系列
就是專為應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)而設(shè)計(jì)的。
蔡司X射線顯微鏡Xradia 610 ＆620 Versa采用改進(jìn)的光源和光學(xué)技術(shù)
X射線計(jì)算機(jī)斷層掃描成像領(lǐng)域面臨的兩大挑戰(zhàn)是：實(shí)現(xiàn)大尺寸樣品和大工作距離下的高分辨率和高通量成像。蔡司推出的兩款X射線顯微鏡憑借
以下優(yōu)勢(shì)解決了這些挑戰(zhàn)：系統(tǒng)可提供高功率的X射線源，顯著提高X射線通量，從而加快了斷層掃描速度。工作效率提高達(dá)兩倍，而且不會(huì)影響空間
分辨率。同時(shí)，X射線光源的穩(wěn)定性得到提升，使用壽命也更長(zhǎng)。
主要特性包括：
Vzui高空間分辨率500nm，zui小體素40 nm
與蔡司Xradia 500Versa系列相比，工作效率提高兩倍
更加簡(jiǎn)便易用，包括快速激活源
?能夠在較大的工作距離下對(duì)更廣的樣品類型和尺寸的樣品進(jìn)行亞微米特征的觀察
更高的分辨率和通量
傳統(tǒng)斷層掃描技術(shù)依賴于單一幾何放大，而蔡司X射線顯微鏡Xradia Versa則將采用光學(xué)和幾何兩級(jí)放大，同時(shí)使用可以實(shí)現(xiàn)更快亞微米級(jí)分辨率
的高通量X射線源。大工作距離下高分辨率成像技術(shù)（RaaD）能夠?qū)Τ叽绺?、密度更高的樣品（包括零件和設(shè)備）進(jìn)行無損高分辨率3D成像。此外，可選
配的平板探測(cè)器技術(shù)（FPX）能夠?qū)Υ篌w積樣品（重達(dá)25 kg）進(jìn)行快速宏觀掃描，為樣品內(nèi)部感興趣區(qū)域的掃描提供了定位導(dǎo)航。
實(shí)現(xiàn)新的自由度
運(yùn)用業(yè)界出色的3D X射線成像解決方案完成前沿的科研與工業(yè)研究：憑借zui大化利用吸收和相位襯度，幫助您識(shí)別更豐富的材料信息及特征。運(yùn)
用衍射襯度斷層掃描技術(shù)（LabDCT）揭示3D晶體結(jié)構(gòu)信息。的圖像采集技術(shù)可實(shí)現(xiàn)對(duì)大樣品或不規(guī)則形狀樣品的高精度掃描。運(yùn)用機(jī)器學(xué)習(xí)算法，
幫助您進(jìn)行樣品的后處理和分割。
優(yōu)異的4D／原位解決方案
蔡司Xradia 600 Versa系列能夠在可控環(huán)境下進(jìn)行材料3D無損微觀結(jié)構(gòu)表征的動(dòng)態(tài)過程。憑借Xradia Versa在大工作距離下仍可保持高分辨率成
像的特性，可將樣品放置到樣品艙室或高精度原位加載裝置中進(jìn)行高分辨率成像。Versa可與蔡司其它顯微鏡無縫集成，解決多尺度成像方面的挑戰(zhàn)。
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