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HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱北京思普特科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/3/15 10:18:45
  • 訪問次數(shù)197
產(chǎn)品標簽:

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北京思普特科技有限公司是集生產(chǎn)、銷售、研發(fā)于一體綜合性的科技公司,公司涉獵廣泛,與國外多家廠商攜手合作,引進國外半導(dǎo)體檢測設(shè)備、水文檢測儀器、水質(zhì)檢測儀器、各類分析儀器、室內(nèi)環(huán)境檢測儀器、農(nóng)業(yè)檢測儀器及應(yīng)急檢測設(shè)備等。公司擁有一批高素質(zhì)的銷售人員和服務(wù)團隊,憑著豐富的專業(yè)知識和多年的工作經(jīng)驗為客戶提供優(yōu)良的技術(shù)咨詢、選型及售后服務(wù)。主營產(chǎn)品廣泛適用于半導(dǎo)體、科研、環(huán)保、醫(yī)療、工業(yè)、農(nóng)業(yè)、水文、氣象、國防、衛(wèi)生、、航天、電力、化工、冶金、制藥、食品行業(yè)以及高校等多個領(lǐng)域。繼往開來,思普特是您值得信賴的朋友及合作伙伴。我們愿意努力奉獻,竭盡,為您提供更優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,最上乘的服務(wù)。
超微量紫外可見分光光度計
核心參數(shù)儀器種類進口輝光放電光譜儀
HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀 產(chǎn)品信息

核心參數(shù)

  • 儀器種類進口輝光放電光譜儀


產(chǎn)品介紹

解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)——Profiler 2



輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學(xué)玻璃、核材料等。


 


GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。


· 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。

·  采用多項技術(shù),如高動態(tài)檢測器(HDD),可測試ppm-99%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

·  分析速度快(2-10nm/s)

 


技術(shù)參數(shù):

1、射頻發(fā)生器-標準配置、復(fù)合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時間短,表面信息無任何失真。

2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,因而擁有的光效率和靈敏度。

5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-99%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。

7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。

8、HORIBA的單色儀(選配)可大地提高儀器靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。

9、適用于ISO14707和16962標準。


儀器原理:

輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當(dāng)施加在放電兩的電壓達到一定值,超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。



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