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RPS晶圓干法去膠機(jī)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市長豐檢測設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/4/16 13:08:56
  • 訪問次數(shù)146
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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公司是一家專注于生產(chǎn):模擬環(huán)境可靠性試驗設(shè)備、力學(xué)設(shè)備、實驗室研發(fā)檢測設(shè)備、大型智能高溫老化設(shè)備、非標(biāo)自動化設(shè)備、半導(dǎo)體表面清洗設(shè)備等產(chǎn)品的企業(yè),產(chǎn)品性能優(yōu)良、耗能低、經(jīng)久耐用,并可根據(jù)用戶的特殊需求進(jìn)行定制。專門為通信、汽車電子、半導(dǎo)體、新能源材料等領(lǐng)域提供測試解決方案及產(chǎn)品檢測。公司總部位于深圳市寶安區(qū)沙井以銷售研發(fā)為主,華南代工廠位于東莞市虎門鎮(zhèn)以及萬江鎮(zhèn),華東代工廠位于江蘇省昆山市均以生產(chǎn)為主;公司職員大專及以上學(xué)歷人才占85%,擁有獨立自主的研發(fā)團(tuán)隊及規(guī)范專業(yè)的生產(chǎn)團(tuán)隊﹔同時也獲得一系列的證書、知識產(chǎn)權(quán)及°企業(yè)"”的認(rèn)證。公司自成立以來不斷的引進(jìn)各種專業(yè)人才對產(chǎn)品進(jìn)行優(yōu)化升級、改良,使得銷售額年均增長達(dá)到30%~50%左右,產(chǎn)品也由單一環(huán)境可靠性試驗設(shè)備逐步拓展到力學(xué)設(shè)備、非標(biāo)自動化設(shè)備以及半導(dǎo)體表面清洗等設(shè)備涉足面廣基本實現(xiàn)全面穩(wěn)定性發(fā)展,并隨著在國內(nèi)環(huán)境試驗設(shè)備等各行業(yè)里逐步建立起的良好口碑和廣泛的品牌認(rèn)知,我司先后成為諸多企業(yè)及各地高校的親密合作伙伴。公司始終堅持從技術(shù)創(chuàng)新開發(fā)、設(shè)計、成品組裝、調(diào)試、測試等每個環(huán)節(jié),以務(wù)實、專業(yè)、嚴(yán)苛的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行產(chǎn)品管理。品質(zhì)至上、朋務(wù)至優(yōu)是我司的發(fā)展理念,客戶的滿意即是我們的目標(biāo)。產(chǎn)品優(yōu)勢:1、產(chǎn)品性能優(yōu)良、經(jīng)久耐用,并可根據(jù)客戶的特殊需求進(jìn)行定制。2、獨立自主的研發(fā)團(tuán)隊,規(guī)范的生產(chǎn)團(tuán)隊,嚴(yán)格按照工藝要求生產(chǎn),外型美觀。3、核心部件采用國外,可保證試驗機(jī)的性能及品質(zhì)。擁有健全的售后服務(wù)保證體系。
振動耐磨擦試驗機(jī)
一、常規(guī)參數(shù)1.安裝尺寸:1300*2300*2000mm(寬*長*高)2.設(shè)備參數(shù)配置:三相電壓380V,50/60Hz,總電流不超過50A;3.設(shè)備部署環(huán)境:萬級淨(jìng)化間,溫度21~23℃,相對濕度45±5%
RPS晶圓干法去膠機(jī) 產(chǎn)品信息

一、常規(guī)參數(shù)

1.安裝尺寸:1300*2300*2000mm(寬*長*高)

2.設(shè)備參數(shù)配置:三相電壓380V,50/60Hz,總電流不超過50A;

3.設(shè)備部署環(huán)境:萬級淨(jìng)化間, 溫度21~23℃,相對濕度45±5%;

4. MTTR/平均故障修復(fù)時間<4小時,MTBF/平均時間>250小時,

Uptime/正常運行時間≥92% .

5. Wafer Breakage/碎片率≤1/10000PCs

6.Descum WPH/descum 產(chǎn)能≥90wafers(基於20秒descum工藝時間程式)

7.base pressure/腔體底壓≤20mTorr;leakage check腔體漏率≤10mtorr/min

8.Partical/顆粒度 :<30ea@0.2um  腔體單次傳片大於0.2um的顆粒增加量小於20顆

9.支持SECS/GEM通訊協(xié)議

二、技術(shù)規(guī)格

2.1設(shè)備規(guī)格

主機(jī)部分

No.

Item/專案

Specification/規(guī)格說明

1

Plasma Source

 

RPS Plasma Source/微波等離子源,1000W, 2.45GHz

RF bias(底部射頻偏壓) 600W,13.56MHz

2

Process Chamber

工作臺chuck溫度範(fàn)圍: 20~50℃;

可選chuck控溫:50~250℃

水冷機(jī)控溫

適合wafer尺寸: 200mm wafer

腔體數(shù)量: 2 Al 6061 腔體

腔體自動門:中國臺灣AdvanTorr

3

Gas Supply System

單個腔體工藝氣路3

MFC品牌:MKS

腔體氣路: O2/N2/Ar,CF4為選配氣體

4

Vacuum System

幹泵: 愛德華

壓力控制: Throttle valve 蝶閥 中國臺灣HTC

真空計:Inficon Vacuum Gauge

5

Auto Wafer Transfer  System

上料臺:2 cassette 上料臺,適合 8 inch wafers;

Cassette wafer mapping:晶圓擺放檢測

VAC Robot; 日本JEL

6

Control System

PC:工業(yè)電腦 Windows系統(tǒng)控制;

操作軟體: 介面友好,圖形化視圖,自動保存log檔

7

Safety System

EMO: 三個急停按鈕

Interlock硬體安全互鎖: 硬體互鎖包括 Power/Temp/Vacuum


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