中試型研磨分散機(jī),實驗室中試研磨分散機(jī),中試型分散機(jī),中試型研磨機(jī)
專為實驗室研發(fā),模擬生產(chǎn)流程,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同,且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同,中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機(jī)器型號升級過程中的風(fēng)險降到zui低。
SGN中試型研磨分散機(jī)是在中試型膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤,剪切細(xì)化能力要強(qiáng)于高剪切膠體磨。
GMD2000/4中試型研磨分散設(shè)備該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
GMD2000/4的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
SGN中試型研磨分散設(shè)備的膠體磨頭有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過更細(xì)的兩級進(jìn)行細(xì)微化研磨。磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
GMD2000/4為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到zui低,保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行。
GMD2000/4中試型研磨分散設(shè)備有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GMD2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送。
GMD2000研磨分散機(jī)標(biāo)準(zhǔn)配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼。 特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。
實驗室中試研磨分散機(jī),中試型分散機(jī),中試型研磨機(jī)