EDI高純水設(shè)備

產(chǎn)品簡介：
名稱：EDI高純水設(shè)備
EDI水處理設(shè)備：
①將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元；
②可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水；
③設(shè)備體積小、操作簡單，適應(yīng)力強，以反滲透（RO）純水作為EDI給水；
工業(yè)高純水 • 混合離子交換柱EDI和CDI
• 預(yù)處理要求低 • 要求以反滲透作預(yù)處理
• 一次性投資少 • 連續(xù)運行
• 水質(zhì)1-18.2MΩ.cm• 產(chǎn)水穩(wěn)定
• 需化學(xué)再生• 無化學(xué)再生

  EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。  

 
  EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而被淡水中濾除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水。

  EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點：①水質(zhì)穩(wěn)定②容易實現(xiàn)全自動控制;③不會因再生而停機;④不需化學(xué)再生;⑤運行成本低;⑥廠房面積小;⑦無污水排放。  
  EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以達17MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純水。
  EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨寬泛。