EDI技術(shù)的出現(xiàn)改變了制備高純水只能采用混床的局面。一般混床工作時需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學(xué)藥品（酸堿）和純水，并造成一定的環(huán)境問題；而膜、樹脂和電化學(xué)原理相結(jié)合的EDI技術(shù)確因為其水質(zhì)穩(wěn)定、容易實現(xiàn)全自動控制、不會因再生而停機、不需化學(xué)再生、運行費用低、廠房面積小無污水排放等優(yōu)點而被廣泛使用。相對于混床來EDI系統(tǒng)的進水要求要求高些一般要求進水電導(dǎo)率在40μS/cm2以下，為雙級反滲透出水，現(xiàn)階段也有很多采用一級反滲透作為EDI預(yù)處理的成功應(yīng)用案例?？傮w來說該方法與混床相比優(yōu)勢明顯但在一次性投資上還是有些劣勢。采用反滲透預(yù)處理+EDI制作超純水其電導(dǎo)率一般可達到17MΩ.CM以上。工業(yè)上廣泛應(yīng)用于電廠鍋爐、、醫(yī)藥、電子、機械等工業(yè)領(lǐng)域。
反滲透簡介：
RO (Reverse Osmosis)即反滲透，是滲透的一種反向遷移運動，是一種在壓力驅(qū)動下借助于半透膜的選擇截留作用將溶液中的溶質(zhì)（實際水處理中指水中的雜質(zhì)、有機物、鹽類鈣、鎂、氯離子等）與溶劑（實際水處理中指水）分開的分離方法。
脫鹽率：RO（反滲透）系統(tǒng)的脫鹽率一般在97%以上，反滲透膜的脫鹽率可達99.8%。
通過反滲透膜的處理，水中的無機鹽類、細(xì)菌、病毒、糖類、氦基酸、COD、BOD等雜質(zhì)被去除，從而達到純化和濃縮的目的。
脫鹽率：RO（反滲透）系統(tǒng)的脫鹽率一般在97%以上，反滲透膜的脫鹽率可達99.8%。
通過反滲透膜的處理，水中的無機鹽類、細(xì)菌、病毒、糖類、氦基酸、COD、BOD等雜質(zhì)被去除，從而達到純化和濃縮的目的。
單級反滲透+EDI高純水系統(tǒng)主機
EDI簡介：
EDI（Electro-de- ionization，continuouselectro-de ionzation）又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。在國內(nèi)此項技術(shù)的應(yīng)用在起步階段，有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢。我公司引進膜元組裝制造的EDI系統(tǒng)在國內(nèi)多家公司的成功應(yīng)用，為EDI系統(tǒng)的推擴打下了基礎(chǔ)。EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。EDI組件中將-定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而被淡水中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水。
單級反滲透+ EDI高純水系統(tǒng)主機
EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。
EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點：
①水質(zhì)穩(wěn)定
②容易實現(xiàn)全自動控制
③不會因再生而停機
④不需化學(xué)再生
⑤運行費用低
⑥廠房面積小
⑦無污水排放
EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點：
①水質(zhì)穩(wěn)定
②容易實現(xiàn)全自動控制
③不會因再生而停機
④不需化學(xué)再生
⑤運行費用低
⑥廠房面積小
⑦無污水排放
EDI設(shè)備般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率-般是40-2μS/cm（25°C）。EDI純電阻率可以高達17MQ2.cm(25°C)，但是根據(jù)去離子水用途，EDI純水適用于 制備電阻率要求在1- 17MQ.cm(25°C)的純水。
EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
（一）EDI的給水處理
給水預(yù)處理對于EDI及其重要，組件的壽命、性能及維修量都取決于給水中的雜質(zhì)含量，如果給EDI提供較好的預(yù)處理水，組件的清洗率將會降低。EDI濃水一部分循環(huán)（當(dāng)給水硬度低、電導(dǎo)率時，可以不循環(huán)），另外一部分可以返回到反滲透給水中，也可以回收作為他用或直接排至下水道。
?。ǘ〦DI的組件結(jié)構(gòu)
1、淡水室：將離子交換樹脂填充在陰、陽離子交換膜之間形成淡水單元。
2、濃水室：用網(wǎng)狀物將每個EDI單元隔開，形成濃水室。
3、極水室。
4、絕緣板和壓緊板。
5、電源及水路連接。
可以將EDI并聯(lián)運行，可取得更大流量。
?。ㄈ〦DI過程
一般城市水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽離子組成。通過反滲透預(yù)處理，99%以上的離子可以被除去。另外，原水中也可能包括其他微元素、溶解的氣體（例如CO2）和一些弱電解質(zhì)（例如硼，二氧化硅）這些雜質(zhì)在I業(yè)除鹽水中必須被除掉。但是反滲透過程對于這些雜質(zhì)的清除效果較差。
上圖表示了EDI的工作過程，在圖中，離子交換膜用豎線表示，并標(biāo)明它們允許通過的離子種類。這些離子交換膜是不允許水通過的。因此，他們可以隔絕淡水和濃水水流。EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
（一）EDI的給水處理
給水預(yù)處理對于EDI及其重要，組件的壽命、性能及維修量都取決于給水中的雜質(zhì)含量，如果給EDI提供較好的預(yù)處理水，組件的清洗率將會降低。EDI濃水一部分循環(huán)（當(dāng)給水硬度低、電導(dǎo)率時，可以不循環(huán)），另外一部分可以返回到反滲透給水中，也可以回收作為他用或直接排至下水道。
?。ǘ〦DI的組件結(jié)構(gòu)
1、淡水室：將離子交換樹脂填充在陰、陽離子交換膜之間形成淡水單元。
2、濃水室：用網(wǎng)狀物將每個EDI單元隔開，形成濃水室。
3、極水室。
4、絕緣板和壓緊板。
5、電源及水路連接。
可以將EDI并聯(lián)運行，可取得更大流量。
?。ㄈ〦DI過程
一般城市水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽離子組成。通過反滲透預(yù)處理，99%以上的離子可以被除去。另外，原水中也可能包括其他微元素、溶解的氣體（例如CO2）和一些弱電解質(zhì)（例如硼，二氧化硅）這些雜質(zhì)在I業(yè)除鹽水中必須被除掉。但是反滲透過程對于這些雜質(zhì)的清除效果較差。
離子交換膜和離子交換樹脂的工作原理相近，可以使特定的離子遷移。陰離子交換膜只允許陰離子通過，不允許陽離子通過;而陽離子交換膜正好相反。在-對陰陽離子交換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成一個EDI單元。陰陽離子交換膜之間由混合離子交換樹脂占據(jù)的空間被稱為淡水室。將定數(shù)量的EDI單元羅列在一起，使陰離子交換膜和陽離子交換膜交替排列，并使用網(wǎng)狀物將每個EDI單元隔開形成濃水室。在給定的直流電壓的推動下，在淡水室中，離子交換樹脂中的陰陽離子分別在電場作用下向正負(fù)極遷移，并透過陰陽離子交換樹脂進入濃水室，同時，給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據(jù)由離子電遷移而流下的空位。事實上離子的遷移和吸附是同時并連續(xù)發(fā)生的。通過這樣的過程，給水中的離子穿過離子交換膜進入到濃水室被去除而成為除鹽水。
帶負(fù)電荷的陰離子（例如0H一、CI- ）被正極(+)吸引而通過陰離子交換膜，進入到臨近的濃水室中。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到臨近的陽離子交換膜，而陽離子交換膜不允許其通過，這些離子即被阻隔在濃水中，在濃水中，透過陰陽膜的離子維持電中性。
雙級反滲透+EDI高純水系統(tǒng)主機
EDI組件電流量和離子遷移量成正比。電流星由兩部分組成，一部分源于被除去離子的遷移，另一部分源于水本身電離產(chǎn)生的H+和0H-，這些就地產(chǎn)生的H +和0H-對離子交換樹脂進行連續(xù)再生。
EDI組件中的離子交換樹脂可以分為兩部分，一部分稱作工作樹脂，另一部分稱作拋光樹脂，一者的界限稱為工作前沿。工作樹脂主要起導(dǎo)電作用，而拋光樹脂在不斷交換和被連續(xù)再生。工作樹脂承擔(dān)著除去大部分離子的任務(wù)，而拋光樹脂則承擔(dān)著去除象弱電解質(zhì)等較難清除的離子的任務(wù)。
?。ㄋ模〦DI的電源
所使用的直流電源應(yīng)在運行電壓范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，并可以提供再生需要的電壓。直流電源的功率應(yīng)滿足EDI電流（6A）的要求。直流電源的紋波率不能超過30%。過高的紋波率會使EDI組件在瞬間承受高于表觀有效電流/電壓，造成對組件的破壞。當(dāng)多個EDI組件共用一個直流電源時，每個EDI電壓/電流應(yīng)實現(xiàn)獨立可調(diào)。配有電壓表和電流表。同時，應(yīng)當(dāng)配備限流裝置。為保護EDI組件 ，當(dāng)流經(jīng)EDI組件的水流量低于某一點時，應(yīng)關(guān)閉電源。
（五）EDI所用儀表
1、壓力表：測定EDI純水、濃水、極水給水壓力和出水壓力。
2、流量計：測量純水出水、濃水入水、極水入水及濃水補水的流量。
3、電導(dǎo)率儀：測量EDI給水和濃水入水電導(dǎo)率。
4、電阻率儀：測量EDI純水電阻率。
5、流量開關(guān)：如果流入EDI組件的純水、濃水、極水流量過低，流量開關(guān)會促使系統(tǒng)關(guān)閉。
五、純水的保存和給水
經(jīng)過EDI處理后的水即可為成品水，進入純水箱保存，為保證水質(zhì)，一般采用氮封的辦法， 即從純水箱頂部充入氮氣。給水后，液位電磁閥與PLC配合，當(dāng)純水箱的水位低于水位時，PLC啟動制水程序，整個系統(tǒng)開始制水，直到純水箱水位達到水位，系統(tǒng)停止制水，如此循環(huán)往復(fù)，始終保持純水箱里有一定的水位。
EDI組件中的離子交換樹脂可以分為兩部分，一部分稱作工作樹脂，另一部分稱作拋光樹脂，一者的界限稱為工作前沿。工作樹脂主要起導(dǎo)電作用，而拋光樹脂在不斷交換和被連續(xù)再生。工作樹脂承擔(dān)著除去大部分離子的任務(wù)，而拋光樹脂則承擔(dān)著去除象弱電解質(zhì)等較難清除的離子的任務(wù)。
?。ㄋ模〦DI的電源
所使用的直流電源應(yīng)在運行電壓范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，并可以提供再生需要的電壓。直流電源的功率應(yīng)滿足EDI電流（6A）的要求。直流電源的紋波率不能超過30%。過高的紋波率會使EDI組件在瞬間承受高于表觀有效電流/電壓，造成對組件的破壞。當(dāng)多個EDI組件共用一個直流電源時，每個EDI電壓/電流應(yīng)實現(xiàn)獨立可調(diào)。配有電壓表和電流表。同時，應(yīng)當(dāng)配備限流裝置。為保護EDI組件 ，當(dāng)流經(jīng)EDI組件的水流量低于某一點時，應(yīng)關(guān)閉電源。
（五）EDI所用儀表
1、壓力表：測定EDI純水、濃水、極水給水壓力和出水壓力。
2、流量計：測量純水出水、濃水入水、極水入水及濃水補水的流量。
3、電導(dǎo)率儀：測量EDI給水和濃水入水電導(dǎo)率。
4、電阻率儀：測量EDI純水電阻率。
5、流量開關(guān)：如果流入EDI組件的純水、濃水、極水流量過低，流量開關(guān)會促使系統(tǒng)關(guān)閉。
五、純水的保存和給水
經(jīng)過EDI處理后的水即可為成品水，進入純水箱保存，為保證水質(zhì)，一般采用氮封的辦法， 即從純水箱頂部充入氮氣。給水后，液位電磁閥與PLC配合，當(dāng)純水箱的水位低于水位時，PLC啟動制水程序，整個系統(tǒng)開始制水，直到純水箱水位達到水位，系統(tǒng)停止制水，如此循環(huán)往復(fù)，始終保持純水箱里有一定的水位。
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