雙變頻金相磨拋機MP-2C

MP-2C金相試樣磨拋機是采用單片機的研磨拋光設(shè)備，雙盤獨立控制，機身采用ABS材料，外形新穎美觀，防腐蝕、經(jīng)久耐用

MP-2C金相試樣磨拋機是采用單片機的研磨拋光設(shè)備，雙盤獨立控制，機身采用ABS材料，外形新穎美觀，防腐蝕、經(jīng)久耐用；牢固的大型支撐底盤設(shè)計確保了精密的回轉(zhuǎn)平衡度；磨盤無級調(diào)速或兩檔調(diào)速，使用壽命長且噪音低，具備高效的研磨拋光體驗；配備冷卻水管，可調(diào)整旋轉(zhuǎn)方向進行濕磨；配備磨盤底部沖洗功能，防止磨削物累積沉淀；使用時僅需更換砂紙及拋布，就能完成各種試樣的粗磨、細磨及拋光等各道工序，是實驗室的理想金相制樣設(shè)備。

主要參數(shù)：

磨盤直徑：　230mm（可選250mm）　 轉(zhuǎn)　　速：　100-1500r/min（無極變速）　 電　　機：　變頻電機/220V/350W　 外形尺寸：　755×660×350mm　 凈　　重：　75Kg