詳細介紹
該設(shè)備主要用于攝像頭模組表面微塵清洗,通過高壓純水沖洗及水氣二流體清洗,從而實現(xiàn)了有效去除Holder,CMOS本體,Wafer等表面微塵顆粒。
設(shè)備特性 :
●一鍵式操作,整個清洗過程全自動完成,無需人工干預(yù);
●離心速度可調(diào);
●鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu),并設(shè)有工藝觀察窗口,實用美觀;
●專業(yè)設(shè)計,二級過濾,無二次污染;
●設(shè)備能耗低,運行噪音小,環(huán)境友好;
●設(shè)備外形緊湊,占地面積小,調(diào)配便捷;
●霧化效果均勻,二流體壓力均勻,運行安全穩(wěn)定;
●全體系儀表監(jiān)測,并設(shè)有報警裝置;
●純水自動加壓過濾,確保清洗效果。