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詳細介紹
Saphir Vibro 振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設(shè)計，是用于進一步材料表征，如 EBSD（背散射電子衍射），AFM （原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設(shè)備。
■ 特 點：
可快速更換的帶磁性系統(tǒng)的拋光池
從 60-120 Hz 的自動頻率控制
“Surface-Guard" 功能降低試樣磨料結(jié)晶和試樣表面腐蝕的機率
預(yù)先安裝好的制備方案和耗材清單
低工作噪音和吸振式結(jié)構(gòu)設(shè)計
軟閉合式防護罩和排氣接口
可存儲多達 200 個制備程序
■ 參 數(shù)：
| 拋光池內(nèi)徑 | ? 308 mm (拋光布直徑 ?300 mm or ?305 mm) |
| 振動頻率 | 60 - 120 Hz |
| 接口 | USB, Ethernet |
| 連接電源 | 0.25 kVA |
| 運行功率 | 135 VA |
| 寬 x 高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
| 重量 | ~ 45 kg |
Saphir Vibro.pdf
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