PF200(F)實(shí)用加強(qiáng)型原子吸收分光光度計(jì)

PF200（F）型原子吸收分光光度計(jì)為實(shí)用型設(shè)備是PF200型的升級(jí)版,具有可增加石墨爐功能,增加元素?zé)粑?智能化程度較高，中/英文操作軟件在 Win XP、 Win 7、 Win10、Vista 平臺(tái)下運(yùn)行，可實(shí)現(xiàn)并行處理多個(gè)窗口，方便的模塊化功能，良好的幫助文件。多種分析功能，可做火焰法、氫化物法、石墨爐法等多種檢測(cè)。外接打印機(jī)。實(shí)現(xiàn)增益、燈電流、光譜帶寬、波長(zhǎng)自動(dòng)控制、曲線自動(dòng)擬合和非線性校......

適用客戶:

此款設(shè)備是實(shí)用加強(qiáng)型設(shè)備,較PF200實(shí)用型由2燈升至3燈，具有石墨爐升級(jí)端口，適合當(dāng)前以火焰為分主，但將來可能要涉及到石墨爐分析的客戶.

器技術(shù)參數(shù)：

1.燈位及切換 :3燈位快速切換； 2.點(diǎn)火方式:電子點(diǎn)火； 3.焦距:270mm （閃耀波長(zhǎng):250mm）； 4.光柵:1800條/mm件（賓松）； 5.光管(核心部件光電倍增管):原裝日本進(jìn)口（賓松）； 6.波長(zhǎng)范圍：185-900nm； 7.波長(zhǎng)**度：全波段優(yōu)于±0.25nm 優(yōu)于國標(biāo)（國標(biāo)為±≤0.5nm）； 8.波長(zhǎng)重復(fù)性：≤0.15nm 優(yōu)于國標(biāo)（國標(biāo)為≤0.3nm）；　9.分辨率：光譜帶寬0.2nm時(shí)分開錳279.5nm和279.8nm雙線 谷峰能量比<20%.優(yōu)于國標(biāo)?。▏鴺?biāo)為≤40%）； 10. 基線穩(wěn)定性(Cu)： ≤0.004A/30min 優(yōu)于國標(biāo)（國標(biāo)為≤0.006A/30min）； 11.特征濃度(Cu)： ≤0.025ug/ml/1% 優(yōu)于國標(biāo) (國標(biāo)為≤0.05ug/ml/1%)； 12. 檢出限(Cu)：≤0.005ug/ml 優(yōu)于國標(biāo)（國標(biāo)為≤0.008ug/ml）； 13. 精密度RSD(Cu)：＜0.5％對(duì) 優(yōu)于國標(biāo)（國標(biāo)為≤0.008ug/ml）； 14.光譜帶寬:0.1 0.2、0.4、2.0nm四檔電腦自調(diào) （儀器默認(rèn)0.2nm，通用所有分析元素）； 15.儀器操作軟件:簡(jiǎn)體中文、英文 (工作環(huán)境：Win XP/Vista操作系統(tǒng)),軟件功能強(qiáng)大，人性化的設(shè)計(jì)，讓分析變得準(zhǔn)確快捷，分析數(shù)據(jù)結(jié)果直接轉(zhuǎn)換成excel文檔，方便編輯.； 16.濃度計(jì)算方式 :標(biāo)準(zhǔn)曲線法（1～3次曲線），標(biāo)準(zhǔn)加入法，內(nèi)插法；　17.重復(fù)測(cè)量次數(shù) :1～20次，重復(fù)測(cè)量計(jì)算平均值，自動(dòng)給出標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差；　18.結(jié)果打印 :參數(shù)打印，數(shù)據(jù)結(jié)果打印，圖形打印，可實(shí)現(xiàn)單元素與多元素分析的報(bào)告匯總報(bào)告；　19.燃燒器：100mm金屬鈦燃燒器，空冷預(yù)混合型；　20.噴霧器：高效玻璃、全塑、不銹鋼霧化器；　21.霧化室：耐腐蝕材料霧化室；　22.位置調(diào)節(jié)：火焰燃燒器*佳高度及前后位置可調(diào)，一份鐘點(diǎn)完成火焰/氫化物換裝；　23.保護(hù)功能：具有多種自動(dòng)安全保護(hù)功能，乙炔漏氣報(bào)警、關(guān)閉系統(tǒng)；　24.燈電流:僅用3mA燈工作電流，提高分析穩(wěn)定性，同時(shí)使元素?zé)羰褂脡勖?/span>1500個(gè)小時(shí)； 25.石墨爐:備有石墨爐升級(jí)端口； 26.保修時(shí)間:壹年

儀器配置

主機(jī)

電源 ：AC220V/50Hz 功率 ：200VA 重量 ： 100kg

體積 ：1000mm（長(zhǎng)）×350mm（寬）×390mm（高）

工作環(huán)境溫度：10～35℃ 工作環(huán)境濕度：≤80%

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