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實(shí)驗(yàn)室FCC催化劑高速剪切膠體磨

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產(chǎn)品型號(hào)CMD2000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

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更新時(shí)間:2017-03-21 09:21:15瀏覽次數(shù):730次

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催化劑研磨分散機(jī),納米研磨分散設(shè)備   


研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。


分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。


在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過(guò)程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

                   
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催化劑研磨分散機(jī)是由膠體磨、分散劑組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    

詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段明明,手機(jī), ,公司有樣機(jī)供客戶(hù)實(shí)驗(yàn)

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。


CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。 


催化劑研磨分散機(jī)的應(yīng)用 
化學(xué)工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料
、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、二氧化硅,鈦**,炭黑等。 
日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級(jí)化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
工業(yè):各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚(yú)**油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、脂肪乳,靜滴液,
乳化豬皮等。 
建筑工業(yè):各種涂料
。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保
的生產(chǎn)需要 。


催化劑研磨分散機(jī)的型號(hào)及規(guī)格

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

2000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

6000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10

,催化劑研磨分散機(jī),催化劑真空均質(zhì)乳化機(jī)?,催化劑研磨分散機(jī),F(xiàn)CC催化劑研磨分散機(jī),催化劑研磨機(jī),催化劑分散機(jī)詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段,手機(jī),() ,公司有樣機(jī)供客戶(hù)實(shí)驗(yàn)

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