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南京博蘊(yùn)通儀器科技有限公司>>>>6英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

6英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

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  • 6英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐

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更新時(shí)間:2023-11-07 11:04:42瀏覽次數(shù):155

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RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,腔體采用高真空不銹鋼,此款設(shè)備可用于蒸發(fā)或CSS鍍膜實(shí)驗(yàn),氧化物、半導(dǎo)體或者太陽(yáng)能基片退火實(shí)驗(yàn),其載樣臺(tái)尺寸為150,頂部載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)提高鍍膜均勻度

詳細(xì)介紹

RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐,腔體采用高真空不銹鋼,此款設(shè)備可用于蒸發(fā)或CSS鍍膜實(shí)驗(yàn),氧化物、半導(dǎo)體或者太陽(yáng)能基片退火實(shí)驗(yàn),其載樣臺(tái)尺寸為Φ150,頂部載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)提高鍍膜均勻度。此款高溫爐的加熱原件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部)。升溫速率是20℃/S

  CSS

 

 

 

 

      

型號(hào)

RTP-Ⅱ-CSS-150

視頻

溫度

 900℃

電源電壓

 AC三相380V

功率

 16KW

 

 

 

腔體結(jié)構(gòu)和真空室

 

 

雙加熱器,兩個(gè)溫度控制器,可單獨(dú)控溫 

真空腔體采用304不銹鋼結(jié)構(gòu),正前方帶有直徑100mm的觀察窗 

真空法蘭由304不銹鋼制成 

法蘭由硅膠O型圈密封,可通過(guò)機(jī)械泵實(shí)現(xiàn)1Pa的真空壓力 

 

 

 

加熱器和樣品架

 

 

 

 

兩組短波紅外燈作為加熱原件,用于快速加熱 

 兩個(gè)加熱器之間的距離可在10~60mm之間調(diào)節(jié)

 上下加熱器之間配備擋板

 上加熱器可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速為0~30rpm

 加熱器由不銹鋼制成,帶有水冷夾套,可減少熱輻射并實(shí)現(xiàn)快速冷卻

 6英寸圓形晶圓支架內(nèi)置頂部加熱器,可裝載基板

 采用導(dǎo)熱率較高的氮化鋁板陶瓷片(直徑6英寸×0.5mm厚)作為載樣臺(tái),以達(dá)到較好的加熱均勻性

 兩個(gè)英國(guó)進(jìn)口歐陸3204數(shù)字溫度控制器,控溫精度±1℃,可獨(dú)立控制頂部和底部加熱器

測(cè)溫方式

 兩根K型熱電偶,一根測(cè)上加熱臺(tái),一根測(cè)下加熱臺(tái)

控溫方式 

采用歐陸3204程序控溫儀表

1、高精度的溫度儀表,LCD液晶顯示屏,5位數(shù)值顯示,通過(guò)快速設(shè)置配置簡(jiǎn)單,C/F單位切換

2、1組程序8步,共4組程序

3、具有過(guò)溫保護(hù) 斷偶保護(hù),過(guò)溫或斷偶時(shí)電爐加熱電路自動(dòng)切斷,,(當(dāng)電爐溫度超過(guò)900度或熱電偶燒斷時(shí),主電路上的交流繼電器會(huì)自動(dòng)斷開(kāi),主電路斷開(kāi),面板上ON燈熄滅,OFF燈亮,有限的保護(hù)電爐)。

4、支持各種通訊接口 Modbus, Ethernet, Profibus,Devicenet,可以與任意PLC或上位系統(tǒng)集成

5、具有斷電保護(hù)功能,即斷電后再給電啟動(dòng)爐子時(shí)、程序不是從起始溫度開(kāi)始升、而是從斷電時(shí)爐溫開(kāi)始升。

6、儀表具有溫度自整定的功能

                                 

       歐陸儀表    

工作溫度 每個(gè)加熱器溫度≤900℃,兩個(gè)加熱器之間的溫差≤300℃ 
 真空泵 機(jī)械泵型號(hào):BSV30 
抽速:8L/s 
 功率:1.1KW

冷水機(jī)    

         CW6200

      

 電源

3PH-380V/50HZ

 總功率

8KW

 揚(yáng)程

 30M

冷凍水量

2.8m3/h

 水箱容量

 110L

 制冷量

13244Kcal/h

 出入水口

 Rp1/2’’

 機(jī)器尺寸

1300×650×1145(長(zhǎng)X寬X高)

 

 

真空蒸鍍?cè)O(shè)備主要由真空室和抽真空系統(tǒng)組成,真空室內(nèi)有蒸發(fā)源(即蒸發(fā)加熱器)、基片及基片架、基片加熱器、排氣系統(tǒng)等。

將鍍膜材料置于真空室內(nèi)的蒸發(fā)源中,在高真空條件下,通過(guò)蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā),當(dāng)蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后,膜材蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的碰撞與阻礙,可直接到達(dá)被鍍的基片表面上,由于基片溫度較低,膜材蒸氣粒子凝結(jié)其上而成膜。

為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力,可以對(duì)基片進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜峄螂x子清洗使其活化。真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)、運(yùn)輸?shù)匠练e成膜,經(jīng)歷的物理過(guò)程如下:

(1)利用各種方式將其他形式的能量轉(zhuǎn)換成熱能,加熱膜材使之蒸發(fā)或升華,成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團(tuán)):

(2)氣態(tài)粒子離開(kāi)膜材表面,以相當(dāng)?shù)倪\(yùn)動(dòng)速度基本上無(wú)碰撞的直線輸運(yùn)到基片表面;

(3)到達(dá)基片表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長(zhǎng)成固相薄膜;

(4)組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合

 

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