研磨分散機 返回列表頁

特別適合于生產(chǎn)膠體溶液或極細的乳液和懸浮液。分散性能允許研磨分散機CK 2000用于連續(xù)過程中，在一次通過中為研磨顆粒提供狹窄分布范圍。對于難度大的研磨任務(wù)，膠體磨可以通過管連接安裝到帶有工作容器的再循環(huán)回路中

特點：

A  線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

B   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

C   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

D   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

E   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到最允許量的10%