詳細(xì)介紹
EDI設(shè)備技術(shù)介紹:
EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水,RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃),EDI純水電阻率可以高達(dá)
17MΩ.cm(25℃ ),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的
超純水。
EDI設(shè)備特點:
1、產(chǎn)水水質(zhì)高且穩(wěn)定、連續(xù);
2、操作簡單、安全;
3、不會因再生而停機;
4、不需酸、堿化學(xué)藥劑再生;
5、運行費用低于混床;
6、占地面積?。?/p>
7、無污水排放;
8、容易實現(xiàn)全自動控制
EDI設(shè)備進(jìn)水水質(zhì)要求:
1、TEA (含CO2 ) < 25mg/L as CaCO3;
2、PH值:5-9;
3、總硬度< 1 mg/L as CaCO3;
4、硅< 0.5 mg/L;
5、TOC< 0.5 mg/L;
6、余氯< 0.05 mg/L;
7、Fe,Mn,H2S < 0.01 mg/L;
8、電導(dǎo)率40-2μS/cm(25℃)。
應(yīng)用領(lǐng)域:
1、電廠化學(xué)水處理;
2、電子、半導(dǎo)體、精密機械行業(yè)超純水;
3、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水;
4、制藥工業(yè)工藝用水;
5、其他行業(yè)所需的高純水制備。