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超純水設(shè)備

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更新時間:2024-04-19 16:00:15瀏覽次數(shù):160

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產(chǎn)品簡介

EDI設(shè)備技術(shù)介紹:EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水,RO純水電導(dǎo)率一般是40-2S/cm(25℃),EDI純水電阻率可以高達(dá)17M.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2M.cm(25℃)的超純水

詳細(xì)介紹

 

EDI設(shè)備技術(shù)介紹:    

    EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水,RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm(25℃),EDI純水電阻率可以高達(dá)

17MΩ.cm(25℃ ),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同,EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的

超純水。

 

EDI設(shè)備特點:

1、產(chǎn)水水質(zhì)高且穩(wěn)定、連續(xù);

2、操作簡單、安全;

3、不會因再生而停機;

4、不需酸、堿化學(xué)藥劑再生;

5、運行費用低于混床;

6、占地面積?。?/p>

7、無污水排放;

8、容易實現(xiàn)全自動控制

 EDI設(shè)備進(jìn)水水質(zhì)要求:

1、TEA (含CO2 ) < 25mg/L as CaCO3;

2、PH值:5-9;

3、總硬度< 1 mg/L as CaCO3; 

4、硅< 0.5 mg/L;

5、TOC< 0.5 mg/L;

6、余氯< 0.05 mg/L;

7、Fe,Mn,H2S < 0.01 mg/L; 

8、電導(dǎo)率40-2μS/cm(25℃)。

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

1、電廠化學(xué)水處理;

2、電子、半導(dǎo)體、精密機械行業(yè)超純水;

3、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水;

4、制藥工業(yè)工藝用水;

5、其他行業(yè)所需的高純水制備。 

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