詳細(xì)介紹
SEM中EDS分析高空間分辨率和低能端性能。將Extreme電子電路、無窗設(shè)計(jì)與幾何結(jié)構(gòu)和傳感器的優(yōu)化設(shè)計(jì)相結(jié)合,靈敏度比傳統(tǒng)大面積SDD高15倍。
◆ 設(shè)備特點(diǎn)
可對(duì)鋰元素進(jìn)行檢測(cè)和成像
加速電壓小于2kV時(shí)塊狀樣品中的空間分辨率低于10nm
在低于1kV加速電壓下對(duì)材料進(jìn)行表征
與浸沒式電鏡相配合,可在高達(dá)30kV的加速電壓下收集高質(zhì)量的元素信息
Ultim Extreme 硅漂移探測(cè)器是高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用的一個(gè)突破,可提供遠(yuǎn)遠(yuǎn)超越傳統(tǒng)微米和納米分析的解決方案。
Ultim Extreme是Ultim Max系列中的一款無窗能譜,晶體面積100mm2,經(jīng)優(yōu)化設(shè)計(jì)來盡可能提高靈敏度和空間分辨率。它采用跑道型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)化高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡在低加速電壓和短工作距離下工作時(shí)的成像和EDS性能,使用Ultim Extreme,EDS的空間分辨率接近掃描電鏡的分辨率。
Ultim Extreme是高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中的一個(gè)突破性解決方案。該探測(cè)器實(shí)現(xiàn)了在低的加速電壓(例如1-3kV)和非常短的工作距離下進(jìn)行EDS數(shù)據(jù)采集和元素分析,從而在高SEM分辨率下分析納米材料和表面的元素信息。
高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡可以用來研究更小的納米結(jié)構(gòu)、界面和表面。然而,在這些分析條件下,工作距離很小,工作電壓非很低,束流需要盡可能小以充分利用鏡筒內(nèi)探測(cè)器的電子信號(hào),但現(xiàn)在沒有EDS可提供此類元素表征。Ultim Extreme的出現(xiàn)改變了這種現(xiàn)狀,它專為此類分析而設(shè)計(jì):
◆ 優(yōu)化的幾何設(shè)計(jì)
在更小的工作距離下工作
在傳統(tǒng)EDS安裝接口上使立體角盡可能提高。立體角通常比Ultim 170大5倍,傳感器與試樣的距離縮短為普通探測(cè)器的一半
◆ 無窗設(shè)計(jì)
與任何其他大面積探測(cè)器相比,立體角提高的同時(shí),對(duì)低能端X射線的靈敏度提高了10~30倍
新型電子電路提高對(duì)極低能量X射線的靈敏度, 增強(qiáng)了高計(jì)數(shù)率下低能量X射線的分析能力
將AZtec Live和Tru-Q ®分析引擎結(jié)合實(shí)現(xiàn)低加速電壓下的數(shù)據(jù)處理和分析
優(yōu)化TruMap用于低電壓譜峰重疊校正
為了實(shí)現(xiàn)這種的幾何結(jié)構(gòu),Ultim Extreme采用非圓形100mm2傳感器和無窗設(shè)計(jì),這種設(shè)計(jì)已成功用于X-Max N 100TLE,以優(yōu)化TEM的靈敏度。此外,該探測(cè)器采用新型的體積更小的的電子陷阱設(shè)計(jì),可在高達(dá)7kV的電壓下進(jìn)行準(zhǔn)確定量分析,并在較高能量下進(jìn)行元素定性分析
售后服務(wù)
免費(fèi)上門安裝:否
保修期:詳詢工程師
是否可延長(zhǎng)保修期:是
保內(nèi)維修承諾:詳詢工程師
報(bào)修承諾:詳詢工程師
免費(fèi)儀器保養(yǎng):詳詢工程師
免費(fèi)培訓(xùn):詳詢工程師
現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)咨詢:有