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離子研磨儀 IM4000II 詳細(xì)摘要: 離子研磨儀 IM4000II
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牛津儀器X-MaxTEM大面積硅漂移探測器 詳細(xì)摘要: 牛津儀器X-MaxTEM大面積硅漂移探測器
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超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列 詳細(xì)摘要: 超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列
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超高分辨肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8700 詳細(xì)摘要: 超高分辨肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8700
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牛津儀器Ultim Extreme無窗超級能譜 詳細(xì)摘要: 牛津儀器Ultim Extreme無窗超級能譜
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牛津儀器Xplore能譜探測器 詳細(xì)摘要: 牛津儀器Xplore能譜探測器
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球差校正掃描透射電子顯微鏡 HD-2700 詳細(xì)摘要: 專用掃描透射顯微鏡HD-2700,配備了與德國CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀,顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能,...
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透射電子顯微鏡HT7800系列 詳細(xì)摘要: 以創(chuàng)新的操作性,滿足廣泛領(lǐng)域的需求。新一代TEM"RuliTEM"誕生。"RuliTEM"120 kV透射電子顯微鏡系列,包含配備高襯度透鏡,實現(xiàn)大視野、高對比...
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球差場發(fā)射透射電子顯微鏡 HF5000 詳細(xì)摘要: 200 kV相差校正TEM/STEM,平衡了空間分辨率和傾斜、分析性能。通過單極片實現(xiàn)0.078 nm的STEM空間分辨率和高樣品傾斜度、高立體角EDX。透射電...
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CAD導(dǎo)航系統(tǒng) 故障分析導(dǎo)航系統(tǒng) (NASFA) 詳細(xì)摘要: 該導(dǎo)航系統(tǒng)可以將CAD數(shù)據(jù)的布線和大規(guī)模集成電路的設(shè)計圖形和FIB的觀察圖像相對應(yīng)起來。當(dāng)CAD系統(tǒng)中的坐標(biāo)位置,樣品臺就會通過鏈接移動到相應(yīng)位置,就可以獲得相...
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微型采樣系統(tǒng) 詳細(xì)摘要: 微型采樣方法(已在日本和美國取得zhuanli)已在半導(dǎo)體器件分析領(lǐng)域成為一款工具,它正迅速向更小制樣方向發(fā)展。僅用一小時左右即可獲得一個微小樣品,以便于STE...
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高性能聚焦離子束系統(tǒng) MI4050 詳細(xì)摘要: MI4050是具有以下特征的高性能聚焦離子束系統(tǒng):新型電子光學(xué)系統(tǒng),可達(dá)到高水準(zhǔn)的SIM像分辨率?大束流使加工速度得以提升?提高了低加速電壓的分辨率,使得高品質(zhì)...
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FIB-SEM三束系統(tǒng) NX2000 詳細(xì)摘要: 在設(shè)備及高性能納米材料的評價和分析領(lǐng)域,F(xiàn)IB-SEM已成為的工具。近來,目標(biāo)觀察物更趨微細(xì)化;更薄,更低損傷樣品的制備需求更進(jìn)一步凸顯。日立高新公司,整合了高...
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高精度實時三維分析FIB-SEM三束系統(tǒng) NX9000 詳細(xì)摘要: 通過自動重復(fù)使用FIB制備截面和進(jìn)行SEM觀察,采集一系列連續(xù)截面圖像,并重構(gòu)特定微區(qū)的三維結(jié)構(gòu)。采用的鏡筒布局,從材料、設(shè)備到生物組織——在寬廣的領(lǐng)域范圍內(nèi)實...
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高性能FIB-SEM系統(tǒng) Ethos NX5000 詳細(xì)摘要: “Ethos"采用日立高新的核心技術(shù)--的高亮度冷場發(fā)射電子槍及新研發(fā)的電磁復(fù)合透鏡,不但可以在低加速電壓下實現(xiàn)高分辨觀察,還可以在FIB加工時實現(xiàn)實時觀察。S...
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全自動型原子力顯微鏡 AFM5500M 詳細(xì)摘要: AFM5500M是操作性和測量精度大幅提高,配備4英寸自動馬達(dá)臺的全自動型原子力顯微鏡。設(shè)備在懸臂更換,激光對中,測試參數(shù)設(shè)置等環(huán)節(jié)上提供全自動操作平臺。新開發(fā)...
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環(huán)境型原子力顯微鏡 AFM5300E 詳細(xì)摘要: AFM5300E是一款環(huán)境型原子力顯微鏡,它的環(huán)境控制單元可以使樣品在大氣中、真空中、溶液中等環(huán)境中進(jìn)行測量。AFM5300E還具有高低溫控制功能,可以檢測溫度...
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通用型原子力顯微鏡 AFM5100N 詳細(xì)摘要: AFM5100N除了激光檢測方式之外,全新的「自檢測懸臂」,在保證高分辨表面形貌觀察的同時,大大簡化了AFM懸臂操作。
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原子力顯微鏡工作站AFM5000II/RealTune® II 詳細(xì)摘要: AFM5000Ⅱ工作站采用全新的圖標(biāo)用戶界面,標(biāo)準(zhǔn)配備參數(shù)自動設(shè)置功能(RealTune® II),即使是剛剛接觸SPM的初學(xué)者或者遇到全新的樣品時,也...
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納米尺度3D光學(xué)干涉測量系統(tǒng) VS1800 詳細(xì)摘要: 納米尺度3D光學(xué)干涉測量系統(tǒng)VS1800應(yīng)用光干涉現(xiàn)象,對微細(xì)的表面形貌進(jìn)行測量,可實現(xiàn)高性能薄膜、半導(dǎo)體、汽車零配件、顯示器等行業(yè)所要求的高精度測量。而且還能...
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