儀器介紹：

  華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

  它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講，都能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系，安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)全新的溫度控制操作！

高真空退火爐

設備原理：

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。

設備特點

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

2. 溫度高精度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

3. 清潔加熱

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

更多應用：