北京飛凱曼科技有限公司
主營產(chǎn)品: 霍爾效應(yīng)測試儀,塞貝克熱電效應(yīng)測試儀,高低溫真空探針臺,少子壽命測試儀,深能級瞬態(tài)譜儀,普克爾盒驅(qū)動,非線性晶體,紅外晶體,光學(xué)元件 |
北京飛凱曼科技有限公司
主營產(chǎn)品: 霍爾效應(yīng)測試儀,塞貝克熱電效應(yīng)測試儀,高低溫真空探針臺,少子壽命測試儀,深能級瞬態(tài)譜儀,普克爾盒驅(qū)動,非線性晶體,紅外晶體,光學(xué)元件 |
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更新時間:2017-05-09 06:45:25瀏覽次數(shù):6951
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北京飛凱曼科技公司提供薄膜應(yīng)力測試儀。薄膜應(yīng)力測試儀,又名薄膜殘余應(yīng)力測試儀或薄膜應(yīng)力儀,是專門用于測試和研究薄膜材料和薄膜制備工藝的*的工具。
薄膜中應(yīng)力的大小和分布對薄膜的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)有重要的影響, 可導(dǎo)致薄膜的光、電、磁、機(jī)械性能改變. 例如, 薄膜中的應(yīng)力是導(dǎo)致膜開裂或與基體剝離的主要因素, 薄膜中存在的殘余應(yīng)力很多情況下影響MEMS 器件結(jié)構(gòu)的特性, 甚至嚴(yán)重劣化器件的性能, 薄膜的內(nèi)應(yīng)力對薄膜電子器件和薄膜傳感器的性能有很大的影響.因此, 薄膜應(yīng)力研究在薄膜基礎(chǔ)理論和應(yīng)用研究中起到重要的作用, 薄膜應(yīng)力的測量備受關(guān)注。再例如在硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域,金屬氮化物、氧化物、碳化物等硬質(zhì)薄膜因具有*的耐磨、耐腐蝕等特性,被廣泛應(yīng)用于金屬材料的防護(hù).硬質(zhì)薄膜的主要制備方法包括物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積技術(shù).研究發(fā)現(xiàn),沉積態(tài)硬質(zhì)薄膜中存在較大的殘余應(yīng)力,而且沿層深分布不均勻;該殘余應(yīng)力對硬質(zhì)薄膜一基體系統(tǒng)的性能影響很大-lJ_精確地測量硬質(zhì)薄膜的殘余應(yīng)力,系統(tǒng)研究它與沉積工藝的關(guān)系,對優(yōu)化硬質(zhì)薄膜基體系統(tǒng)的性能具有重要的意義.
本公司提供的
基于經(jīng)典基片彎曲法Stoney公式測量原理,采用*控制技術(shù)和傻瓜化的操作,使得FST150薄膜應(yīng)力測量儀特別適合于要求快速測量常規(guī)薄膜殘余應(yīng)力。 根據(jù)我們科研工作者*的扎實的理論研究和實際工藝探索,研制的一套適用于各種薄膜應(yīng)力測試的裝置。近年來,經(jīng)過國內(nèi)院校和科研單位的實際使用和驗證,該儀器具有良好的重復(fù)性和準(zhǔn)確性,是一款廣泛應(yīng)用于各領(lǐng)域薄膜制備和材料研究的高性價比的儀器。
產(chǎn)品功能和特點:
自動采集分析數(shù)據(jù)功能;
自動掃查樣品邊緣,定位樣品中心;
自動計算出曲率半徑值和薄膜應(yīng)力值;
對原始表面不平直的基片表面的薄膜,可采取原位測量的方式,計算薄膜應(yīng)力值。
技術(shù)參數(shù):
1.原理:曲率法Stoney公式
2.薄膜應(yīng)力測量范圍:5MPa到50GPa;
3.曲率半徑測試范圍:0.3-20m
4.曲率半徑測試誤差:﹤±1%
5.薄膜應(yīng)力計算誤差:﹤±2%
6.測試平臺行程:X方向100mm,Y方向50mm
7.樣品尺寸:長方形樣品
8.樣品定位:自動定位原點
9.樣品校正:可計算校正原始表面不平直影響
10.主要功能:自動測量采集計算曲率半徑和薄膜應(yīng)力
11.控制:獨立PC及控制軟件
12.儀器尺寸:1500x380x360mm
詳細(xì)信息請咨詢我們。
P?en???n style='font-size:9.0pt; font-family:宋體;mso-bidi-font-family:宋體;color:black;mso-font-kerning:0pt'>控制器要求: MMR提供的可編程溫度和塞貝克測量控制器
過濾干燥系統(tǒng)要求: 標(biāo)準(zhǔn)的過濾干燥系統(tǒng)或者可再生過濾干燥系統(tǒng)
氣體要求: 99.998% 的高純氮氣或者氬氣,至少1800 psi壓力
真空要求: 不高于8 mTorr
產(chǎn)品應(yīng)用
1)汽車和燃油
2)能源利用效率
3)替代能源領(lǐng)域
4)熱電制冷
5)很多其他工業(yè)和研究領(lǐng)域-每年都會誕生新的應(yīng)用領(lǐng)域
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