當(dāng)前位置：伯東企業(yè)（上海）有限公司>>Hakuto 離子蝕刻機(jī) IBE>>Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE

返回列表頁

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品牌

廠商性質(zhì)代理商

所在地

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品

聯(lián)系方式：朱珠查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2021-10-06 17:00:36瀏覽次數(shù)：245次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自制藥網(wǎng)

產(chǎn)品分類 品牌分類

暫無信息

伯東企業(yè)（上海）有限公司

經(jīng)營模式：代理商

商鋪產(chǎn)品：137條

所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：朱珠（銷售助理）

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡介

上海伯東日本適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的 Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE.蝕刻均勻性: 5%, 硅 Si 刻蝕速率20 nm/min, 樣品臺(tái): 直接冷卻（水冷）0~90 度旋轉(zhuǎn).Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 內(nèi)部使用美國 KRI 考夫曼離子源產(chǎn)生轟擊離子;終點(diǎn)檢出器采用 Pfeiffer 殘余氣體質(zhì)譜分析儀監(jiān)測當(dāng)前氣體成分, 判斷刻蝕情況.

詳細(xì)介紹

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 產(chǎn)品優(yōu)勢：

Hakuto 離子蝕刻機(jī) 10IBE 主要優(yōu)點(diǎn)
1. 干式制程的微細(xì)加工裝置, 使得在薄膜磁頭, 半導(dǎo)體元件, MR sensor 等領(lǐng)域的開發(fā)研究及量產(chǎn)得以廣泛應(yīng)用.
2. 物理蝕刻的特性, 無論使用什么材料都可以用來加工, 所以各種領(lǐng)域都可以被廣泛應(yīng)用.
3. 配置使用美國考夫曼離子源.
4. 射頻角度可以任意調(diào)整, 蝕刻可以根據(jù)需要做垂直, 斜面等等加工形狀.
5. 基板直接加裝在直接冷卻裝置上, 所以可以在低溫環(huán)境下蝕刻.
6. 配置公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)傳輸機(jī)構(gòu), 使得被蝕刻物可以得到比較均勻平滑的表面.
7. 機(jī)臺(tái)設(shè)計(jì)使用自動(dòng)化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生產(chǎn)過程.

其他推薦產(chǎn)品更多>>