詳細(xì)摘要： 制藥無(wú)殘留GMP均質(zhì)機(jī)在納米均質(zhì)機(jī)運(yùn)作的過(guò)程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個(gè)零部件都是處于高速運(yùn)轉(zhuǎn)的狀態(tài),研磨定轉(zhuǎn)子部分會(huì)帶動(dòng)研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強(qiáng)烈的碰擦與撞擊,以起到磨...