桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀

桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀

本小型蒸發(fā)鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸鍍，在對(duì)樣品進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜的過(guò)程中，樣品臺(tái)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜。鍍膜電流*大可達(dá)60A，本型號(hào)的小型蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光LED的制備。設(shè)備配有兩套蒸發(fā)源，可以通過(guò)擋板切換，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品的多層鍍膜。儀器體積小巧，可有效節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間；操作簡(jiǎn)單，對(duì)不同材料的適應(yīng)性強(qiáng)，十分適合實(shí)驗(yàn)室選購(gòu)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，鍍膜效果能夠更加均勻；

2. 采用鎢絲籃為發(fā)熱源，*高溫度可達(dá)到1700℃；

3. 可向真空腔體中通入惰性氣體，對(duì)腔體進(jìn)行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜。

4. 進(jìn)氣口配有針閥，用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量。

5. 雙蒸法源，可以實(shí)現(xiàn)多層鍍膜。

技術(shù)參數(shù)