注射液改良型膠體磨,注射液膠體磨, 注射液研磨分散機(jī) ,注射液新型膠體磨,注射液進(jìn)口研磨設(shè)備,注射液改良型膠體磨是將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成。
特別是一種硫酸頭孢喹肟注射液及其制作工藝。該注射液的組成為含頭孢喹肟不低于50g-300g的硫酸頭孢喹肟微粉、抗氧劑0.4g-40g、脂類或酯類有機(jī)溶劑加至10000ml。制作工藝將抗氧劑溶于脂類或酯類有機(jī)溶劑,過濾至混合罐中,將硫酸頭孢喹肟微粉加入,攪勻,過均質(zhì)機(jī),制成均勻的混懸液,攪拌、分裝、滅菌。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的國內(nèi)沒有第四代動(dòng)物頭孢類抗菌素的問題,具有所制備的產(chǎn)品與第三代頭孢菌素相比,抗菌譜更廣,抗菌活性更強(qiáng),對細(xì)菌產(chǎn)生的β-內(nèi)酰胺酶更穩(wěn)定,*了國內(nèi)沒有第四代動(dòng)物頭孢類抗菌素制劑的空白,整體制備工藝簡單易行。
改良型膠體磨,研磨分散機(jī),簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時(shí)間差因素。從成本上來講,原先兩臺設(shè)備的價(jià)格,現(xiàn)在用一臺研磨分散機(jī)就可以完成,性價(jià)比更高。更多信息請包。
CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
CMD2000系列改良型膠體磨的結(jié)構(gòu):是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫妫貏e要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列改良型膠體磨的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
,注射液膠體磨, 注射液研磨分散機(jī) ,注射液新型膠體磨,注射液進(jìn)口研磨設(shè)備,全新的設(shè)計(jì)理念,超高設(shè)備剪切力,以及穩(wěn)定的設(shè)備運(yùn)行,IKN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設(shè)備服務(wù)!