SPECTRO GENESIS ICP等離子發(fā)射光譜儀
應(yīng)用SPECTRO側(cè)向等離子體接口（SPI?）的側(cè)向觀測(cè)等離子體用于高濃度和主成分檢測(cè)、高固含量和有機(jī)物分析，可以提高線性范圍、準(zhǔn)確度和精度。
利用優(yōu)化的層流、低流速吹掃機(jī)理的SPI保證光路中無氧氣、減少對(duì)紫外區(qū)波長(zhǎng)的吸收。這個(gè)技術(shù)可保證易維護(hù)的入射光學(xué)組件不受污染，使得175-190nm光譜范圍的譜線的穩(wěn)定和超常的靈敏度。
用于工業(yè)分析的工廠預(yù)校準(zhǔn)分析方法包。下面是可供選擇的方法包：
工業(yè)廢水（只有基本的方法）、污泥、土壤、油品中磨損金屬/添加劑、礦石、金屬材料
分光系統(tǒng)：
恒溫在+30?C ? 0.1?C；中空防熱彭脹雙帕邢－龍格羅蘭圓設(shè)計(jì)；焦距400mm；全息凹面原光柵，刻線密度2400刻線/mm；石英光學(xué)部件；全部是1級(jí)波長(zhǎng)覆蓋；波長(zhǎng)范圍：175 - 777 nm；入射狹縫：15 μm
SPECTRO GENESIS ICP等離子發(fā)射光譜儀檢測(cè)器：
根據(jù)所在波長(zhǎng)精心選擇并進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)的15個(gè)線性CCD連續(xù)排列在羅蘭圓上；分辨率14pm；與光學(xué)系統(tǒng)一樣恒溫在；動(dòng)態(tài)范圍為108，全波長(zhǎng)覆蓋，ICAL自動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)化
紫外系統(tǒng)：
氬氣吹掃系統(tǒng), 佳化低流量吹掃(只在分析190nm以下元素時(shí)使用)
高頻發(fā)生器：免維護(hù)型，頻率為27.12MHz，發(fā)生器功率：0.7 to 1.7 kW
進(jìn)樣系統(tǒng)及炬管單元
• Lock-in-Place快速換裝設(shè)計(jì)
• Gas flows under full computer control氣體流量全部由計(jì)算機(jī)控制
o Plasma gas等離子氣 : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
o Auxiliary gas輔助氣 : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
o Nebulizer gas霧化氣 : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments
• 計(jì)算機(jī)控制4速、3通道、12滾軸進(jìn)樣蠕動(dòng)泵
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