ZEISS GeminiSEM 450場發(fā)射掃描電子顯微鏡

ZEISS GeminiSEM 450場發(fā)射掃描電子顯微鏡
為對任意樣品進(jìn)行高水準(zhǔn)的成像和分析而生
蔡司GeminiSEM 系列產(chǎn)品具有出色的探測效率，能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細(xì)節(jié)信息靈敏度讓您在對任意樣品進(jìn)行成像和分析時(shí)都具備更佳的靈活性，為您在材料科學(xué)研究、生命科學(xué)研究、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室或是顯微成像平臺中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像，提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)和方案。

GeminiSEM 450 具有出色的易用性設(shè)計(jì)、更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度，使其能快速、靈活、可靠地對樣品進(jìn)行表面成像和分析，充當(dāng)您的得力助手

更高的速度與靈敏度，更好的成像和分析

GeminiSEM 450更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對樣品進(jìn)行表面成像和分析，簡便、快速地進(jìn)行EDS能譜和EBSD等分析，同時(shí)保持出色的空間分辨率，充當(dāng)您的得力助手。

在EDS能譜和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像，在低電壓條件下工作時(shí)更為優(yōu)異；

可快速地對樣品進(jìn)行大范圍及高質(zhì)量成像；

經(jīng)優(yōu)化的電子光學(xué)鏡筒，減少了工作過程中進(jìn)行重新校準(zhǔn)的復(fù)雜流程，節(jié)省成像時(shí)間，提高工作效率；

無論是不導(dǎo)電樣品、磁性樣品或是其他類型的樣品，無論是高真空或是可變壓力模式，均可實(shí)現(xiàn)快速和高質(zhì)量的成像和分析.

ZEISS GeminiSEM 450場發(fā)射掃描電子顯微鏡
Gemini電子光學(xué)系統(tǒng)
Gemini 2類型鏡筒-出色的綜合性能，為您所欲為

• 要實(shí)現(xiàn)對任意樣品都能進(jìn)行高質(zhì)量的測試和表征，掃描電子顯微鏡必須在成像和分析方面都具備優(yōu)異的性能，同時(shí)能給用戶簡單易用的操作體驗(yàn)。如今，Gemini 2鏡筒可滿足您在這些方面的各種需求：

  • GeminiSEM 450 配置雙聚光鏡的Gemini 2類型電子光學(xué)鏡筒；

  • 在確保獲得出色的小電子束斑的同時(shí)，束流連續(xù)可調(diào)；

  • 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進(jìn)行無縫切換；

  • 調(diào)整工作參數(shù)后無需對電子束進(jìn)行重新校準(zhǔn)，為您節(jié)約時(shí)間，提高儀器效率；

  • 操作靈活易用，高電子束能量密度下的高分辨率成像，低束流分析，高束流分析等各類不同的工作模式，一切由您而定；

  • 物鏡無漏磁設(shè)計(jì)，在大視野范圍成像和EBSD分析中不會引起畸變，確保獲得樣品高質(zhì)量的圖像；

  • 出色、穩(wěn)定的電子光學(xué)鏡筒，對各種類型的樣品都能簡單快速的進(jìn)行高分辨率成像，即使在使用中樣品需要傾斜，甚至是對磁性樣品進(jìn)行成像；

  • P搭載局部電荷中和器或NanoVP可變壓力模式，有效地消除樣品的表面荷電，讓您在出色參數(shù)下對樣品進(jìn)行成像和分析.

技術(shù)參數(shù)：