大功率直流磁控濺射鍍膜儀產(chǎn)品內容:
大功率直流磁控濺射鍍膜儀包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形,甚至損壞樣品;樣品臺可旋轉,可以使樣品邊旋轉邊鍍膜使鍍膜后的樣品表面膜后均勻。設備外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。
大功率直流磁控濺射鍍膜儀技術規(guī)格:
輸入電壓 | 220 C 50/60Hz ,使用1000 W變壓器(15 A保險絲)可獲得110 V電源 |
輸出功率 | - 1600 VDC
- 250 W
- 150 mA max.
- 內置過流保護(>150 mA)
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樣本室 | - 石英玻璃管, 165 mm外徑×150 mm內徑×250 mm高度
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濺射頭和樣品臺 | - 一個直徑50 mm的不銹鋼樣品臺可在0-5 RPM范圍內旋轉。
- 濺射頭和樣品臺之間的距離可在60-100mm之間調節(jié)。
- Max涂層面積: 4"直徑max.
- 一個 空氣冷循環(huán)冷水機組10 L / min流量,包括冷卻濺射頭。
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控制面板 | - 6“彩色觸摸屏控制面板,PLC集成,操作簡便
- 所有參數(shù)監(jiān)視和控制的一個面板:真空,電流。
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極限真空壓力 | - 內置KF25真空端口
- 該系統(tǒng)需要帶有壓力調節(jié)器的Ar氣罐。(不包含)
- 用于Au、Ag、Pt、Cu、Mo靶的Vane真空泵(不包括) <1.0E-2 Torr (對空氣不敏感)
- 渦輪分子泵(不包括) <1.0E-5 Torr 用于Al、Mg、Li、Lr、Ti、Zn靶(對空氣敏感)
- 通過連續(xù)抽吸和烘烤,低真空可達到<4.0E-6托
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氣氛 | - 安裝一個針閥,允許Ar氣體入口實現(xiàn)更好的等離子涂層
- 該系統(tǒng)需要帶有壓力調節(jié)器的Ar氣罐(不包括在內)
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靶 | - 包括一個2英寸銅靶用于測試,目標尺寸:2英寸直徑×2.5mm。
- 它還可以涂覆Ag,Al,Cr,Ni,Pt,Ti,Sn,Li,Mg 等幾乎所有種類的金屬材料。
- 警告:本機可以涂覆鋁,鉻或鎳靶 ,但在使用前請查看*涂層方法。
- 請使用RF等離子體磁控濺射涂覆氧化鋁
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整體尺寸 | L 440 mm×W 330 mm × H 290 mm |
凈重 | 20 kg |
售后服務 | 貨物發(fā)出后,CYKY提供一年免費售后服務,服務方式限于電話指導、視頻指導、郵件指導、配件郵寄等遠程。如需要派人現(xiàn)場服務,客戶需要支付服務人員差旅費和出差期間的工資。 |
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